[发明专利]评估多通道微和/或亚波长光学投影单元的质量的方法和测试系统在审
| 申请号: | 202010909823.1 | 申请日: | 2020-09-02 |
| 公开(公告)号: | CN112525490A | 公开(公告)日: | 2021-03-19 |
| 发明(设计)人: | 伊莎贝尔·阿格林;卡特琳·辛德勒;威尔弗里德·诺埃尔;索菲安妮·图尔诺伊斯;苏珊娜·韦斯特恩赫费尔 | 申请(专利权)人: | 苏斯微技术光刻有限公司 |
| 主分类号: | G01M11/02 | 分类号: | G01M11/02;G06K9/62;G06N3/04;G06N3/08;G06T7/00 |
| 代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 谭营营;胡彬 |
| 地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 评估 通道 波长 光学 投影 单元 质量 方法 测试 系统 | ||
1.一种用于评估多通道微和/或亚波长光学投影单元(28)的质量的方法,包括以下步骤:
-对微和/或亚波长光学投影单元(28)的至少预定义部分进行照明,以便通过所述多通道微和/或亚波长光学投影单元(28)的预定义部分的至少两个通道来生成图像;
-捕获由投影单元(28)的预定义部分生成的图像;
-分析所述图像;
-基于对所述图像的分析,确定至少一个特征量,其中,所述特征量的值与所述投影单元(28)的至少一个特性特征、所述投影单元(28)的至少一个缺陷和/或所述投影单元(28)的缺陷类别相关联;和
-基于所述至少一个特征量来评估所述投影单元(28)的质量。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述至少一个特征量包括清晰度、暗度、均匀性、亮度波动和局部缺陷中的至少一个。
3.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,微光学投影单元(28)基于所述至少一个特征量而被分类为至少两个质量类别之一。
4.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,所述投影单元(28)包括多个微和/或亚波长光学元件(30),特别是微透镜和/或亚波长透镜,特别地,其中光学元件(30)具有所述投影单元(28)的尺寸、曲率、掩模和/或位置,所述尺寸、曲率和/或位置是所述投影单元(28)的至少一个特性特征中的至少一个。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述光学元件(30)构成一个阵列,所述阵列在两个相邻光学元件(30)之间的距离是所述投影单元(28)的至少一个特性特征中的至少一个。
6.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,在所述投影单元(28)的制造期间,特别是在生产线结束时,对所述投影单元(28)的质量进行评估。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,基于对所述投影单元(28)的质量评估来调整制造参数,特别是所述特性特征中的至少一个。
8.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,通过统计方法和/或通过机器学习模块来分析所述投影单元(28)的图像,特别地,其中所述机器学习模块包括预训练的人工神经网络。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述机器学习模块已经用标记的训练数据进行了预训练,其中所述标记的训练数据包括由样本光学投影单元的预定义部分生成的样本图像,并且其中,所述标记的训练数据包括与相应的样本图像和/或相应的样本投影单元的质量类别对应的至少一个特征量。
10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,通过将所述统计方法应用于所述样本图像来获得与所述相应的样本图像对应的至少一个特征量。
11.一种用于评估多通道微和/或亚波长光学投影单元(28)的质量的测试系统,包括照明单元(12)、图像捕获设备(18)、图像分析模块(24)和控制模块(22),其中所述控制模块(22)被配置为使所述测试系统(10)执行根据前述权利要求中任一项所述的方法。
12.根据权利要求11所述的测试系统,其特征在于,所述测试系统(10)包括被测试设备(14),特别地,其中所述被测设备(14)是多通道微和/或亚波长光学投影单元(28)。
13.一种计算机程序,包括指令,当程序被根据权利要求11或12所述的测试系统(10)的控制模块(22)的处理单元执行时,所述指令使所述测试系统(10)执行根据权利要求1至10中任一项所述的方法的步骤。
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