[发明专利]一种光敏测钎装置及坡面下降高度的测量方法

权利要求书

1.一种光敏测钎装置，其特征在于，包括测钎杆(1)、光敏元件组(2)和信号处理模块(3)，所述光敏元件组(2)和信号处理模块(3)均安装在钎杆(1)上，所述光敏元件组(2)包括多个沿着测钎杆(1)竖直方向依次布置的光敏元件，所有所述的光敏元件输出端和信号处理模块(3)的输入端连接，所述信号处理模块(3)用于根据接收到的光敏元件组(2)的通断状态，判断出位于地面以上的光敏元件中最靠近坡面(6)的光敏元件。

2.根据权利要求1所述的一种光敏测钎装置，其特征在于，所述信号处理模块(3)的输出端和无线数据传输模块(4)，通过无线数据传输模块(4)将接收到的信号传递至接收单元的输入端连接，所述接收单元用于根据位于地面以上的光敏元件中最靠近坡面(6)的光敏元件的编号或位置，计算钎杆(1)露出地面的高度，以及坡面的下降高度。

3.根据权利要求1所述的一种光敏测钎装置，其特征在于，所述钎杆(1)上设置有用于为信号处理模块(3)供电的太阳能电源模块(5)。

4.根据权利要求1所述的一种光敏测钎装置，其特征在于，所述光敏元件均匀布置。

5.根据权利要求4所述的一种光敏测钎装置，其特征在于，所述光敏元件之间的间距为1mm。

6.根据权利要求1所述的一种光敏测钎装置，其特征在于，所述光敏元件的型号为PT0603。

7.一种基于权利要求1所述的一种光敏测钎装置的坡面下降高度测量方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1、将测钎杆(1)插入待测坡面(6)中，测钎杆(1)插入待测坡面后，部分光敏元件埋没在坡面(6)中；

步骤2、进行首次测量，自下至上依次检测对光敏元件是否导通，当检测到连续两个光敏元件导通时，信号处理模块(3)输出位于坡面(6)以上的光敏元件中最靠近坡面(6)的光敏元件的位置D1或编号N1；

步骤3、间隔设定的时间后，再次进行测量，得到新的位于坡面(6)以上的光敏元件中最靠近坡面(6)的光敏元件的位置D2或编号N2；

步骤4、根据两次测量的位置或编号，计算在设定时间前后，坡面的厚度变化-即被测坡面的流失厚度。

8.根据权利要求7所述的一种坡面下降高度测量方法，其特征在于，步骤4中，计算出被测坡面的流失厚度的深度后，由接收单元存储，并计算所测坡面的日土壤侵蚀强度D_i、月土壤侵蚀强度M_k和年土壤侵蚀强度T。