[发明专利]一种用于产生光学频率梳的片上硫系微环谐振腔在审
申请号: | 202010892901.1 | 申请日: | 2020-08-31 |
公开(公告)号: | CN112034660A | 公开(公告)日: | 2020-12-04 |
发明(设计)人: | 张斌;夏迪;李朝晖;黄誉斐;杨泽林;曾平羊;孙耀东;吴家越;潘竞顺 | 申请(专利权)人: | 中山大学 |
主分类号: | G02F1/35 | 分类号: | G02F1/35;G02F1/365;G02B6/12;G02B6/122 |
代理公司: | 深圳市创富知识产权代理有限公司 44367 | 代理人: | 李思坪 |
地址: | 510275 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 产生 光学 频率 片上硫系微环 谐振腔 | ||
1.一种用于产生光学频率梳的片上硫系微环谐振腔,其特征在于,包括纤芯、上包层和下包层,所述纤芯置于下包层上,所述上包层将纤芯覆盖并与下包层连接,所述纤芯采用硫系材料制成,所述上包层和下包层采用折射率低于2.1的材料制成。
2.根据权利要求1所述一种用于产生光学频率梳的片上硫系微环谐振腔,其特征在于,所述纤芯的宽度范围为600nm~3000nm,所述纤芯的高度范围为500nm~1000nm。
3.根据权利要求2所述一种用于产生光学频率梳的片上硫系微环谐振腔,其特征在于,所述纤芯包括微环波导和耦合直波导,所述微环波导形状为圆环状,所述耦合直波导形状为长方体。
4.根据权利要求3所述一种用于产生光学频率梳的片上硫系微环谐振腔,其特征在于,所述下包层上还设有基底片,所述基底片与微环波导和耦合直波导连接。
5.根据权利要求4所述一种用于产生光学频率梳的片上硫系微环谐振腔,其特征在于,所述基底片包括但不限于硅片、蓝宝石片和二氧化硅片。
6.根据权利要求5所述一种用于产生光学频率梳的片上硫系微环谐振腔,其特征在于,所述微环波导的半径为20μm~500μm。
7.根据权利要求6所述一种用于产生光学频率梳的片上硫系微环谐振腔,其特征在于,所述上包层采用的材料包括但不限于二氧化硅和环氧树脂,所述下包层采用的材料包括但不限于二氧化硅和氟化镁。
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