[发明专利]一种用于产生光学频率梳的片上硫系微环谐振腔在审

专利信息
申请号: 202010892901.1 申请日: 2020-08-31
公开(公告)号: CN112034660A 公开(公告)日: 2020-12-04
发明(设计)人: 张斌;夏迪;李朝晖;黄誉斐;杨泽林;曾平羊;孙耀东;吴家越;潘竞顺 申请(专利权)人: 中山大学
主分类号: G02F1/35 分类号: G02F1/35;G02F1/365;G02B6/12;G02B6/122
代理公司: 深圳市创富知识产权代理有限公司 44367 代理人: 李思坪
地址: 510275 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 产生 光学 频率 片上硫系微环 谐振腔
【权利要求书】:

1.一种用于产生光学频率梳的片上硫系微环谐振腔,其特征在于,包括纤芯、上包层和下包层,所述纤芯置于下包层上,所述上包层将纤芯覆盖并与下包层连接,所述纤芯采用硫系材料制成,所述上包层和下包层采用折射率低于2.1的材料制成。

2.根据权利要求1所述一种用于产生光学频率梳的片上硫系微环谐振腔,其特征在于,所述纤芯的宽度范围为600nm~3000nm,所述纤芯的高度范围为500nm~1000nm。

3.根据权利要求2所述一种用于产生光学频率梳的片上硫系微环谐振腔,其特征在于,所述纤芯包括微环波导和耦合直波导,所述微环波导形状为圆环状,所述耦合直波导形状为长方体。

4.根据权利要求3所述一种用于产生光学频率梳的片上硫系微环谐振腔,其特征在于,所述下包层上还设有基底片,所述基底片与微环波导和耦合直波导连接。

5.根据权利要求4所述一种用于产生光学频率梳的片上硫系微环谐振腔,其特征在于,所述基底片包括但不限于硅片、蓝宝石片和二氧化硅片。

6.根据权利要求5所述一种用于产生光学频率梳的片上硫系微环谐振腔,其特征在于,所述微环波导的半径为20μm~500μm。

7.根据权利要求6所述一种用于产生光学频率梳的片上硫系微环谐振腔,其特征在于,所述上包层采用的材料包括但不限于二氧化硅和环氧树脂,所述下包层采用的材料包括但不限于二氧化硅和氟化镁。

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