[发明专利]一种高铝硅玻璃方型闪点效果的制作工艺

说明书

本发明公开了一种高铝硅玻璃方型闪点效果的制作工艺，包括以下步骤：（1）配置高铝硅玻璃方型闪点效果蚀刻液，并将蚀刻液置于蚀刻淋砂装置内；（2）将高铝硅玻璃材质手机后壳原片不需蚀刻的一面用抗蚀刻油墨丝印覆盖保护；（3）将高铝硅玻璃材质手机后壳原片需要蚀刻的一面清洗干净并风干，在干式状态下放置于蚀刻淋砂装置中进行淋砂蚀刻处理；（4）从蚀刻淋砂装置中取出被蚀刻好的高铝硅玻璃材质手机后壳原片，再用抛光液进行抛光处理，清洗干净，最后风干或烘干即可。本发明对高铝硅玻璃材质的手机后壳进行蒙砂蚀刻处理，在玻璃表面形成一层微米级厚度的方型柱状微晶颗粒，在迎光的情况下，玻璃表面呈现出星光闪烁的效果。

技术领域

本发明属于蚀刻玻璃技术领域，具体涉及一种高铝硅玻璃方型闪点效果的制作工艺。

背景技术

随着5G智能手机的普及与推广，手机型号的多元化需求也呈现出来，手机玻璃后壳的蒙砂装饰越来越受到人们的青睐，目前常用的蒙砂技术就是通过蒙砂液对玻璃基体进行蒙砂蚀刻，可使玻璃基体获得雾面朦胧的外观效果，提升手机后壳的外观视觉效果。然而，目前对玻璃基体进行蒙砂蚀刻的蒙砂液、蒙砂玻璃及其加工方法以及所产生的特殊蚀刻效果仍有待改进，不同的特殊蚀刻效果需要不同的蒙砂药液配方与不同的蚀刻工艺方法。

发明内容

本发明的目的在于提供一种高铝硅玻璃方型闪点效果的制作工艺，对高铝硅玻璃材质的手机后壳进行蒙砂蚀刻处理，在玻璃表面形成一层微米级厚度的方型柱状微晶颗粒，在迎光的情况下，玻璃表面呈现出星光闪烁的效果。

基于上述目的，本发明采取如下技术方案：

一种高铝硅玻璃方型闪点效果的制作工艺，包括以下步骤：

（1）配置高铝硅玻璃方型闪点效果蚀刻液，搅拌均匀直至蚀刻液呈均匀一致的过饱和溶液状态，并将蚀刻液置于蚀刻淋砂装置内；

（2）将高铝硅玻璃材质手机后壳原片不需蚀刻的一面用抗蚀刻油墨丝印覆盖保护；

（3）将高铝硅玻璃材质手机后壳原片需要蚀刻的一面清洗干净并风干，在干式状态下放置于蚀刻淋砂装置中进行淋砂蚀刻处理；

（4）从蚀刻淋砂装置中取出被蚀刻好的高铝硅玻璃材质手机后壳原片，再用抛光液进行抛光处理，清洗干净，最后风干或烘干即可。

进一步地，所述高铝硅玻璃方型闪点效果蚀刻液由以下质量分数的原料组成：18-30%的NH₄HF₂、3-8%的KHF₂、5-10%的NH₄F、15-25%的HNO₃、8-12%的H₂SO₄、3-6%的HCl、5-8%的MgSiF₆、6-10%的BaSO₄、2-6%的NaNO₃、0.5-0.8%的K₂SO₄、0.8-1.5%的CuCl₂、1.2-1.8%的CaCl₂、3-8%的淀粉、1-3%麦芽糖、15-25%的H₂O。

进一步地，所述步骤（3）中淋砂蚀刻处理的淋砂蚀刻时间为3-5min、淋砂液温度为18-20℃。

本发明所提供的高铝硅玻璃方型闪点效果的制作工艺，具有以下有益效果：