[发明专利]一种基于类卤素原位钝化法的CdTe纳米晶制备方法在审
申请号: | 202010804013.X | 申请日: | 2020-08-12 |
公开(公告)号: | CN111908435A | 公开(公告)日: | 2020-11-10 |
发明(设计)人: | 李璠;王晓峰;夏雪峰;王腾逸 | 申请(专利权)人: | 南昌大学 |
主分类号: | C01B19/04 | 分类号: | C01B19/04;B82Y40/00;B82Y20/00;C09K11/88 |
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地址: | 330000 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 卤素 原位 钝化 cdte 纳米 制备 方法 | ||
本发明提供了一种基于类卤素原位钝化法的CdTe纳米晶制备方法,属于纳米晶技术领域。该技术方案将类卤素铵盐(硫氰酸铵、四氟硼酸铵、六氟磷酸铵)引入到制备CdTe纳米晶的前驱体溶液中,原位引入的类卤素基团(即硫氰酸基团、四氟硼酸基团、六氟磷酸基团)能够有效钝化CdTe纳米晶的表面缺陷,减少非辐射复合中心,从而有效提高其荧光性能和稳定性。本发明制备的CdTe纳米晶具有较高的荧光性能,且稳定性较好;同时,其工艺过程简单,制备参数易于控制,重复性好,为制备高亮度稳定CdTe纳米晶提供了一种新的途径。
技术领域
本发明涉及纳米晶技术领域,具体涉及一种基于类卤素原位钝化法的CdTe纳米晶制备方法。
背景技术
近年来,CdTe纳米晶由于具有激发光谱窄,激发波长连续分布,激子Bohr半径大、光化学稳定性好等优势,在生物检测、太阳能电池、激光器件、光催化、光学传感器等领域显示出广阔的应用前景。目前,研究人员通过采用不同的制备方法,以及优化合成条件等措施,已制备出具有较高荧光量子产率的,发光性能可调的CdTe纳米晶。然而,CdTe纳米晶的比表面积大,其表面存在着大量的表面缺陷,且极易被氧化,从而严重劣化CdTe纳米晶的荧光性能和稳定性。要想使CdTe纳米晶真正得以实际应用,进一步提高其荧光性能和稳定性仍是一大挑战。
为了提高CdTe纳米晶的荧光性能和稳定性,研究人员采用了不同的方法和策略,如采用二氢硫辛酸、巯基丙酸、谷胱甘肽等小分子巯基化合物等进行表面包覆,或形成核-壳结构。研究表明,上述措施能够有效提高CdTe纳米晶的稳定性,但这些方法仍存在不足之处,如:需要特殊的配体或工艺步骤复杂等。因此,探索一种简单高效的方法来实现高亮度稳定CdTe纳米晶的制备十分重要。
发明内容
本发明旨在针对现有技术的技术缺陷,提供一种基于类卤素原位钝化法的CdTe纳米晶制备方法,以解决常规方法所制备的CdTe纳米晶,其荧光性能和稳定性有待改善的技术问题。
本发明要解决的另一技术问题是,如何拓展CdTe纳米晶的制备方法。
为实现以上技术目的,本发明采用以下技术方案:
一种基于类卤素原位钝化法的CdTe纳米晶制备方法,包括以下步骤:
1)在氮气氛围中,将0.2×10-3mmol碲粉与过量的硼氢化钠混合,注入1.2~1.5mL去离子水,常温下反应至黑色碲粉完全消失,得到NaHTe;
2)以所述NaHTe中Te的摩尔量为标量;按Cd摩尔量:标量=1:1.2的比例取乙酸镉加入至三口烧瓶中,注入200~250mL去离子水,按标量:三巯基丙酸摩尔量=1:2.4的比例取三巯基丙酸加入其中,按标量:SCN-摩尔量=1:2.5~7.5的比例取硫氰酸铵加入其中,调节pH至9~10,转氮气氛围,向其中加入所述NaHTe,100℃下回流50~60分钟;向其中加入10~20mL异丙醇,而后固液分离取固相,乙醇洗涤,干燥,即得到所述CdTe纳米晶。
作为优选,将所述按标量:SCN-摩尔量=1:2.5~7.5的比例取硫氰酸铵加入其中,替代为:按标量:BF4摩尔量=1:2.5~7.5的比例取四氟硼酸铵加入其中。
作为优选,将所述按标量:SCN-摩尔量=1:2.5~7.5的比例取硫氰酸铵加入其中,替代为:按标量:PF6摩尔量=1:2.5~7.5的比例取六氟磷酸铵加入其中。
作为优选,步骤1)中,所述混合的场所为支口瓶;所述氮气氛围是通过以下方法构建的:向支口瓶中充8~10min氮气,将支口瓶中的空气排除干净。
作为优选,步骤1)中,所述注入1.2~1.5mL去离子水,是利用注射器实现的。
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