[发明专利]谐振射频腔的电介质插入件上的涂层在审

专利信息
申请号: 202010788659.3 申请日: 2020-08-07
公开(公告)号: CN112349571A 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: E·基夫特;P·多娜;J·F·M·范伦斯;W·费尔赫文;P·马特塞尔斯;J·勒伊滕;O·巴科 申请(专利权)人: FEI公司
主分类号: H01J37/147 分类号: H01J37/147;H01J37/244;H01J37/04;H01J37/28
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 周学斌;申屠伟进
地址: 美国俄*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 谐振 射频 电介质 插入 涂层
【说明书】:

本文公开了射频(RF)腔和包含此类RF腔的系统。所述RF腔特征在于具有插入件,所述插入件的至少一个侧壁被涂覆有材料以防止电荷累积而不影响RF输入功率且是热和真空兼容的。一个实例RF腔包含:电介质插入件,所述电介质插入件具有从所述电介质插入件的一侧延伸到另一侧的开口以形成通孔;以及涂层,所述涂层安置于所述电介质插入件的内表面上,所述内表面面向所述通孔,其中所述涂层具有厚度和电阻率,所述厚度小于厚度阈值,且所述电阻率大于电阻率阈值,其中所述厚度和电阻率阈值部分地基于所述RF腔的操作参数。

技术领域

本申请案大体上是针对射频腔,且更具体来说是针对射频腔中的涂层。

背景技术

带电粒子显微镜通常为被供能的发射器提供连续带电粒子射束。虽然连续射束在大多数应用中工作良好,但时变射束在其它应用中将是有益的,例如在成像的同时激发样本的时间相依测量。然而,时变带电粒子射束较难以生成。一个已知方法是使用光学泵送发射器,其仅当光能正辐射源极时才发射带电粒子。虽然此技术通常仅在脉冲模式中使用,但连续带电粒子射束是可能的,但在操作中带有不希望的缺陷。尽管专用脉冲系统对一些应用有用,但期望具有可提供脉冲带电粒子射束和连续带电粒子射束两者的带电粒子显微镜。

发明内容

本文公开了射频(RF)腔和包含此类RF腔的系统。所述RF腔特征在于具有插入件,所述插入件的至少一个侧壁被涂覆有材料以防止电荷累积而不影响RF输入功率且是热和真空兼容的。一个实例RF腔包含:电介质插入件,所述电介质插入件具有从所述电介质插入件的一侧延伸到另一侧的开口以形成通孔;以及涂层,所述涂层安置于所述电介质插入件的内表面上,所述内表面面向所述通孔,其中所述涂层具有厚度和电阻率,所述厚度小于厚度阈值,且所述电阻率大于电阻率阈值,其中所述厚度和电阻率阈值部分地基于所述RF腔的操作参数。

另一实例设备包含:外部壳体,所述外部壳体具有内部腔,在所述内部腔的顶部和底部上具有开口;插入件,其安置于所述外部壳体的所述内部腔内,所述插入件具有延伸一直通过所述外部壳体的顶部和底部上的开口且与所述开口对准的通孔;以及涂层,其安置于所述插入件的面向所述通孔的表面上,所述涂层具有小于厚度阈值的厚度和小于电导率阈值的电导率,其中所述涂层防止所述插入件上的电荷累积。

实例系统至少包含:发射器,其被耦合以沿着光学路径发射电子射束;一组或多组光学器件,其沿着所述光学路径布置;以及RF腔,其包含所述光学路径的一部分,所述RF腔包括:电介质插入件,所述电介质插入件具有从所述电介质插入件的一侧延伸到另一侧的开口以形成通孔:以及涂层,其安置于所述电介质插入件的内表面上,所述内表面面向所述通孔,其中所述涂层具有厚度和电阻率,所述厚度小于厚度阈值,且所述电阻率大于电阻率阈值,其中所述厚度和电阻率阈值是部分地基于所述RF腔的操作参数。

附图说明

图1是根据本公开的实施例的实例带电粒子显微镜。

图2A、2B和2C是根据本公开的实施例的RF腔的实例图示。

图3是根据本公开的实施例的RF腔的侧壁的实例图示。

贯穿附图的若干视图,相似的附图标记指代对应的部分。

具体实施方式

下文在带电粒子显微镜的上下文中描述本发明的实施例,其中启用射频腔来选通带电粒子射束。举例来说,透射式电子显微镜中包含射频腔以使得可以选通电子束,使得用电子束脉冲串而不是连续电子束照射样本。然而,应理解,本文所描述的方法大体上适用于广泛范围的不同带电粒子显微镜。

除非上下文另外明确规定,否则如本说明书和权利要求书中所用,单数形式“一(a/an)”和“所述”包含复数形式。另外,术语“包含”意指“包括”。此外,术语“耦合”不排除耦合项之间存在中间元件。

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