[发明专利]一种可在超高温环境中使用的高强度氮化硼陶瓷的制备方法有效

专利信息
申请号: 202010771468.6 申请日: 2020-08-04
公开(公告)号: CN111848179B 公开(公告)日: 2022-12-02
发明(设计)人: 吴赟;孙志远;温广武;李俐;侯永昭;张衡;李道谦;王鑫昊;李鑫;刘业青;仲诚;刘芸;刘飞标 申请(专利权)人: 山东理工大学;北京空间飞行器总体设计部
主分类号: C04B35/583 分类号: C04B35/583;C04B35/645;C04B35/626
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 255086 山东省淄*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 超高温 环境 使用 强度 氮化 陶瓷 制备 方法
【说明书】:

本发明公开了一种可在超高温环境中使用的高强度氮化硼陶瓷的制备方法,包括如下步骤:1)将氮化硼粉料置于球磨罐中,并加入不同直径的氧化锆研磨球,然后将球磨罐抽真空或通入氮气,利用球磨设备对其进行粉磨使其粒度D50<1μm,其中球磨方式可以采用干磨或湿磨,球磨过程中控制物料温度低于40℃;2)根据产品使用性能要求,在处理后的氮化硼粉料中加入质量分数为0~25%的二硼化锆,0~15%的硼粉,进行均匀混合后得到陶瓷原料。将陶瓷原料置于热压模具中,装模,预压。3)将装完料的模具置于真空热压炉内真空度<10Pa,以3‑15℃/min的速率升温到1800‑2100℃后,开始对样品进行加压处理,压力为20‑60MPa,保温10‑120min后降温泄压,降温速率为3‑15℃/min.即得所述的高强氮化硼陶瓷材料。这种方法提高了传统氮化硼陶瓷的强度,且物相中不含影响其高温性能的氧化硼,降低高强氮化硼陶瓷材料的生产成本。该方法对原料要求简单,且危险性小,对制备的环境要求比较低,可大量制备。

技术领域

本发明属于高温结构功能一体化陶瓷的技术领域,涉及一种可在超高温环境中使用的高强度氮化硼陶瓷的制备方法。

背景技术

六方氮化硼(h-BN)陶瓷便是一种有着巨大发展潜力的高温结构陶瓷材料。h-BN是一种具有类似石墨结层状结构的新材料,呈象牙白色,故俗称“白石墨”,其无明显熔点,且在高温下无软化现象,耐强酸强碱腐蚀。h-BN耐热性非常好,可以在900℃以下的氧化氛围中和2800℃以下的氮气和惰性气氛中使用。同其它陶瓷材料相比,h-BN陶瓷具有耐高温、高热导率、膨胀系数低、抗热震等一系列特性,是一种性能优异的高温结构陶瓷材料,在各个领域被广泛应用。目前六方氮化硼陶瓷也存在的一些问题:h-BN粉末具有松散、易吸潮等性质,热压烧结陶瓷致密度低,机械强度比较低,具有较明显的各向异性、且在氧气气氛中稳定性比较差,使用温度在900℃以下[1,2]

其他专利则是通过加入第二相,来强化氮化硼基陶瓷的各项性能[3,4]。本发明研究了可在超高温环境中使用的高强度氮化硼陶瓷的制备方法,在保证氮化硼陶瓷高温性能的同时,提高了传统氮化硼陶瓷的力学性能,解决了氮化硼粉体细化与潮解氧化的矛盾,降低了高强氮化硼陶瓷材料的生产成本。

参考文献

[1]叶乃清,曾照强,胡晓清,等, BN基复合陶瓷致密化的主要障碍[J], 现代技术陶瓷,1998,19(1):7-10。

[2]陈广乐,彭珍珍,范仕刚,等, 热压烧结高纯h-BN陶瓷材料及其致密性研究[J], 硅酸盐通报,2010,29(2):436-439。

[3]严密,徐崟, 一种高强度高抗氧化性BN陶瓷及其制备方法[P] , 浙江:CN103420677A,2013-12-04。

[4]贾德昌,梁斌,杨治华,王胜金,何培刚,段小明,周玉,一种片层状BN(C)晶粒增韧的Si- B- C- N陶瓷的制备方法[P] , 黑龙江:CN106518075A,2017-03-22。

发明内容

本发明研究了可在超高温环境中使用的高强度氮化硼陶瓷的制备方法,在保证氮化硼陶瓷高温性能的同时,提高了传统氮化硼陶瓷的力学性能,解决了氮化硼粉体细化与潮解氧化的矛盾,降低了高强氮化硼陶瓷材料的生产成本。本发明是采取球磨介质级配、球磨环境控制和参数优化将氮化硼粉体球磨到纳米级别,然后根据材料的性能要求在氮化硼中添加二硼化锆粉或硼粉,再将原料放入模具中进行热压烧结并对热压烧结的升温和降温速率进行控制。该方法对原料要求简单,制备过程中无污染物排放,对制备的环境和设备要求比较低,有利于工业大规模制备。

为此本发明的技术方案如下:

一种超高温环境中使用的高强度氮化硼陶瓷的制备方法,包括如下步骤:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山东理工大学;北京空间飞行器总体设计部,未经山东理工大学;北京空间飞行器总体设计部许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010771468.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top