[发明专利]一种基于微结构的太赫兹动态相位调制器在审

专利信息
申请号: 202010721331.X 申请日: 2020-07-24
公开(公告)号: CN111934068A 公开(公告)日: 2020-11-13
发明(设计)人: 梁华杰;张雅鑫;董亚洲;曾泓鑫;杨梓强;梁士雄 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01P1/18 分类号: H01P1/18;H01Q3/34;H01Q1/50
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 闫树平
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 微结构 赫兹 动态 相位 调制器
【权利要求书】:

1.一种基于微结构的太赫兹动态相位调制器,其特征在于:包括(1)输入波导、(2)波导-微带线过渡结构、(3)微带线、(4)接地结构、(5)微结构、(6)输出波导和(7)金属电容结构;

所述波导-微带线过渡结构有两个,分别为第一波导-微带线过渡结构和第二波导-微带线过渡结构;

所述输入波导通过第一波导-微带线过渡结构与微带线连接,实现波导与微带线的一端连通;微带线的另一端经第二波导-微带线过渡结构与输出波导连通;

所述接地结构和微结构均分别与微带线并连于微带线的两侧,其中接地结构提供接地的零电势;微结构通过输入的调制信号实现太赫兹波的相位调制。

所述微结构包括金属电容结构、高电子迁移率晶体管HEMT以及馈电金属块;

其中金属电容结构包含第一金属电容结构和第二金属电容结构两个,第一金属电容结构通过第一金属段与微带线连接,第二金属电容结构通过第二金属段与馈电金属块连接;高电子迁移率晶体管HEMT设置在第一和第二金属电容结构中间,与两金属电容结构共同构成二极管的结构;高电子迁移率晶体管HEMT靠近馈电金属块的一端为正电压加载电极,靠近微带线一端为负电压加载电极。

2.如权利要求1所述基于微结构的太赫兹动态相位调制器,其特征在于:所述微结构中的第一和第二金属段各自的长度与宽度,以及形状可调,以得到所需的相位调制性能。

3.如权利要求1所述基于微结构的太赫兹动态相位调制器,其特征在于:所述微结构中的第一和第二金属电容结构的尺寸以及形状可调,以得到所需的相位调制性能。

4.如权利要求1所述基于微结构的太赫兹动态相位调制器,其特征在于:所述微结构共计M个,1<M≤32。

5.如权利要求1所述基于微结构的太赫兹动态相位调制器,其特征在于:所述微带线的基底材料为蓝宝石、高阻硅、砷化镓或碳化硅。

6.如权利要求1所述基于微结构的太赫兹动态相位调制器,其特征在于:所述微带线采用的材料为Au、Ag、Cu、或Al。

7.如权利要求1所述基于微结构的太赫兹动态相位调制器,其特征在于:所述高电子迁移率晶体管HEMT中的金属电极材料为Ti、Al、Ni或Au。

8.如权利要求1所述基于微结构的太赫兹动态相位调制器,其特征在于:

工作流程具体如下:太赫兹波通过输入波导输入,经过波导-微带线过渡结构后到达微结构与微带线的连接区域,利用微结构的馈电金属块输入调制信号,使得高电子迁移率晶体管HEMT的载流子浓度发生变化实现微结构的通断,从而实现太赫兹波的相位调制,再通过输出波导将调制后的太赫兹波进行输出。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学,未经电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010721331.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top