[发明专利]一种阵列基板、阵列基板制程方法及显示面板有效

专利信息
申请号: 202010708841.3 申请日: 2020-07-22
公开(公告)号: CN111864112B 公开(公告)日: 2022-06-10
发明(设计)人: 齐晓青 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 李新干
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 阵列 基板制程 方法 显示 面板
【说明书】:

本申请实施例提供一种阵列基板、阵列基板制程方法及显示面板,该阵列基板包括:像素定义层、发光层以及透明导光层。像素定义层具有相对设置的第一面和第二面,且在第一面设置有若干凹槽,凹槽的侧面与底面延长线所成的角度为0°至50°。发光层设置在凹槽底面。透明导光层填充在凹槽内,并位于发光层远离凹槽底面的一侧。通过在凹槽内填充透明导光层,发光层的光线经过透明导光层折射后,其出射角会增加。另外,透明导光层填满凹槽后能够解决凹槽底部存在角度难以封装的问题。填充透明导光层后,还能够改善喷墨打印时材料的流平性能,给喷墨打印带来减薄效果。

技术领域

本申请涉及显示技术领域,具体涉及一种阵列基板、阵列基板制程方法及显示面板。

背景技术

目前主流的有机电致发光显示器件(OrganicLight-Emitting Diode,OLED)蒸镀与封装工艺,是在阵列工艺制作好的像素界定层(pixel definition layer,PDL)划分的像素区域中蒸镀相应的有机发光材料,再通过物理气相沉积(Physical Vapour Deposition,PVD)、化学气相沉积(Chemical Vapour Deposition,CVD)和喷墨打印(ink jet print,IJP)等工艺成膜封装保护起来。为了防止蒸镀材料扩散发生混色,像素区域往往设计成凹坑结构,有机发光材料一般蒸镀在相应的凹坑底部。这种设计在工艺过程中常导致像素区出光范围较小的问题。

发明内容

本申请实施例提供一种阵列基板、阵列基板制程方法及显示面板,能够改善像素区出光范围较小的问题。

本申请提供一种阵列基板,包括:

像素定义层,所述像素定义层具有相对设置的第一面和第二面,且在所述第一面设置有若干凹槽,所述凹槽的侧面与底面延长线所成的角度为0°至50°;

发光层,所述发光层设置在所述凹槽底面;

透明导光层,所述透明导光层填充在所述凹槽内,并位于所述发光层远离所述凹槽底面的一侧。

在一些实施例中,所述透明导光层远离所述发光层的一侧表面与所述第一面平齐。

在一些实施例中,所述透明导光层远离所述发光层的一侧表面向远离所述发光层的方向凸起,所述凸起的表面为半圆形、波浪形或凹凸折线形中的任一种。

在一些实施例中,所述透明导光层采用透明微球层叠堆积形成。

在一些实施例中,所述透明微球的直径沿第二面向第一面的方向逐渐变大。

在一些实施例中,所述透明微球的直径为0.5μm至2μm。

在一些实施例中,还包括封装层,所述封装层设置在所述第一面和所述透明导光层远离所述发光层的一侧表面。

一种阵列基板制程方法,包括:

提供一像素定义层,所述像素定义层包括相对设置的第一面和第二面;

在所述第一面设置若干凹槽,所述凹槽的侧面与底面延长线所成的角度为0°至50°;

在所述凹槽底面设置发光层;

在所述发光层远离所述凹槽底面的一侧填充透明导光层,所述透明导光层填充所述凹槽。

在一些实施例中,采用沉积或蒸镀的方法在所述发光层远离所述凹槽底面的一侧设置透明导光层。

本申请实施例提供一种显示面板,包括以上所述的阵列基板。

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