[发明专利]青霉素发酵液的处理方法

权利要求书

1.一种青霉素发酵液的处理方法，包括如下步骤：

(1)对青霉素发酵液进行一级超滤

在温度保持在10℃以下，采用截留分子量为30000～100000道尔顿的高分子超滤膜对青霉素发酵液进行一级超滤，且保持进膜压力与出膜压力差值小于0.02MPa，得到第一超滤浓液和第一超滤稀液；

(2)对第一超滤稀液进行二级超滤

在温度保持在10℃以下，采用截留分子量为10000至小于30000道尔顿的高分子超滤膜对第一超滤稀液进行二级超滤，且保持进膜压力与出膜压力差值小于0.02MPa，得到第二超滤浓液和第二超滤稀液；

(3)对第二超滤稀液进行三级超滤

在温度保持在10℃以下，采用截留分子量为500至小于10000道尔顿的高分子超滤膜对第二超滤稀液进行三级超滤，且保持进膜压力与出膜压力差值小于0.02MPa，得到第三超滤浓液和第三超滤稀液；

(4)对第三超滤稀液进行纳滤浓缩

在温度保持在10℃以下，采用截留分子量为150～300道尔顿的高分子纳滤膜进行纳滤浓缩，且保持进膜压力与出膜压力差值小于0.02MPa，得到纳滤浓缩液，

其中，所述高分子超滤膜和所述高分子纳滤膜是聚醚砜膜，该聚醚砜膜是按如下方法制备的聚醚砜膜：将含有聚醚砜的铸膜液在基底上铸膜，而后在含有表面活性剂的水溶液中凝固、老化，而后干燥，其中所述表面活性剂为有机硅表面活性剂或者聚乙烯醇；

所述青霉素发酵液透光率控制在对于430nm波长的光，透光率为15％～20％；对于625nm波长的光，透光率为70％～80％；发酵液效价为45000～55000u/ml；

所得到的第一超滤稀液在对于430nm波长的光，透光率为25％～30％；对于625nm波长的光，透光率为85％～90％，效价为45000～55000u/ml；

所得到的第二超滤稀液在对于430nm波长的光，透光率为60％～70％；对于625nm波长的光，透光率为90％～95％，效价为45000～55000u/ml；

所得到的第三超滤稀液在对于430nm波长的光，透光率为65％～75％；对于625nm波长的光，透光率为95％～98％，效价为45000～55000u/ml。

2.根据权利要求1所述的青霉素发酵液的处理方法，其特征是，在所述步骤(1)对青霉素发酵液进行一级超滤中，在进行一级超滤时，进膜压力选择为0.30～0.50MPa，进膜压力大于出膜压力，进、出膜压力差值小于0.02MPa。

3.根据权利要求1所述的青霉素发酵液的处理方法，其特征是，在所述步骤(1)对青霉素发酵液进行一级超滤中，采用截留分子量为30000～50000道尔顿的高分子超滤膜对青霉素发酵液进行一级超滤。

4.根据权利要求1所述的青霉素发酵液的处理方法，其特征是，在所述步骤(1)对青霉素发酵液进行一级超滤中，采用截留分子量为30000～35000道尔顿的高分子超滤膜对青霉素发酵液进行一级超滤。

5.根据权利要求1所述的青霉素发酵液的处理方法，其特征是，在所述步骤(2)对第一超滤稀液进行二级超滤中，采用截留分子量为10000～20000道尔顿截流量的高分子超滤膜对第一超滤稀液进行二级超滤；

在进行二级超滤时，进膜压力选择为0.30～0.50MPa，进膜压力大于出膜压力，进、出膜压力差值小于0.02MPa。

6.根据权利要求1所述的青霉素发酵液的处理方法，其特征是，在所述步骤(2)对第一超滤稀液进行二级超滤中，采用截留分子量为10000～15000道尔顿截流量的高分子超滤膜对第一超滤稀液进行二级超滤；

在进行二级超滤时，进膜压力选择为0.30～0.50MPa，进膜压力大于出膜压力，进、出膜压力差值小于0.02MPa。

7.根据权利要求1所述的青霉素发酵液的处理方法，其特征是，在所述步骤(3)对第二超滤稀液进行三级超滤中，采用截留分子量为1000～5000道尔顿截流量的高分子超滤膜对第二超滤稀液进行三级超滤。