[发明专利]一种计算企业所得税税金的方法及系统在审
申请号: | 202010599693.6 | 申请日: | 2020-06-28 |
公开(公告)号: | CN111899081A | 公开(公告)日: | 2020-11-06 |
发明(设计)人: | 杨明华 | 申请(专利权)人: | 航天信息软件技术有限公司 |
主分类号: | G06Q40/00 | 分类号: | G06Q40/00;G06Q50/26 |
代理公司: | 北京工信联合知识产权代理有限公司 11266 | 代理人: | 姜丽辉 |
地址: | 100195 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 计算 企业所得税 税金 方法 系统 | ||
1.一种计算企业所得税税金的方法,其特征在于,所述方法包括:
根据企业的企业信息确定企业的纳税规则,并根据企业的通用扣除标准确定企业所得税税务标准;
采集企业财务数据,适配企业的财务制度,并根据企业的财务制度将采集的企业财务数据导入至相应的第一财务报表中;
将企业历年申报数据结转至当期的第一财务报表中,以确定第二财务报表;
基于会计折旧方法和税收折旧方法确定企业固定资产的固定资产加速折旧值;
补录职工薪酬纳税调整及软件企业新办集成电路优惠情况信息的台账信息;
根据企业研发项目的类型计算企业当年研发加计扣除金额;
根据所述企业的纳税规则、企业所得税税务标准、第二财务报表、企业固定资产加速折旧值、台账信息和企业当年研发加计扣除金额计算企业所得税税金。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据企业的企业信息确定企业的纳税规则,包括:
若企业的申报类型为独立申报,则确定企业的纳税规则为企业独立申报所得税税额规则;
若企业的申报类型为汇总申报,则确定企业的纳税规则为统一计算企业申报所得税税额;其中,若企业的总分机构类型为分支机构且属于就地预缴范围,则确定企业的纳税规则为就地缴纳规则;若企业的总分机构类型为分支机构且不属于就地预缴范围,则确定企业的纳税规则为非就地缴纳规则;若企业的总分机构类型为总机构且跨省,则确定企业的纳税规则为“统一计算、分级管理、就地预缴、汇总清算和财政调库”规则;若企业的总分机构类型为总机构且不跨省,则确定企业的纳税规则为总机构省内规则。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据企业的通用扣除标准确定企业所得税税务标准,包括:
设定企业通用扣除标准项,并根据所述通用扣除标准项计算用于企业所得税扣除的比例;其中,所述通用扣除标准项包括:职工福利费、工会经费、职工教育经费、补充养老保险费、补充医疗保险费业务招待费支出、广告费和业务宣传费、限额扣除公益捐赠扣除比例、佣金和手续费支出以及研发加计扣除比例。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于会计折旧方法和税收折旧方法确定企业固定资产的固定资产加速折旧值,包括:
依照企业经营的会计制度确定会计折旧方法,并根据确定的会计折旧方法计算企业固定资产的会计折旧计算值;
依照税法的税收折旧方法计算企业固定资产的税收折旧计算值;
根据所述会计折旧计算值和税收折旧计算值确定享受加速折旧优惠的企业规定资产的固定资产加速折旧值。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述补录职工薪酬纳税调整及软件企业新办集成电路优惠情况信息的台账信息,包括:
登记录入创投企业投资抵扣应纳税所得额台账,购置专用设备投资抵免所得税额台账,软件企业或新办集成电路设计企业优惠情况台账,职工薪酬纳税调整明细表,工资薪金账载金额,职工福利费账载金额,职工教育经费账载金额,工会经费账载金额,基本社保账载金额,住房公积金账载金额,补充养老_补充医疗账载金额,佣金台账和向非金融机构借款利息支出台账,以对申报表数据进行补全,并根据补全数据确定申报金额。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据企业研发项目的类型计算企业当年研发加计扣除金额,包括:
确定企业研发项目的类型;其中,若企业研发项目类型为“委托研发”,则采用委托研发算法计算研发加计扣除金额;若企业研发项目类型为“自主研发”,则采用自主研发算法计算研发加计扣除金额;若企业研发项目类型为“集中研发”,则采用集中研发算法计算研发加计扣除金额;若企业研发项目类型为“合作研发”,则采用合作研发算法计算研发加计扣除金额;
导入研发项目期初余额数据和研发项目序时账数据;
基于研发项目的类型,根据所述期初余额数据和序时账数据,确定企业当年研发加计扣除金额。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于航天信息软件技术有限公司,未经航天信息软件技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010599693.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:导风建筑结构
- 下一篇:一种具有高深宽比结构的半导体器件及其制造方法