[发明专利]投射光学单元、光学系统以及投射曝光设备

权利要求书

1.一种将物场(4)成像在像场(8)中的投射光学单元(34；35；36；37)，

-包含多个反射镜(M1至M8)，其用于将来自所述物场(4)的成像光(3)引导至所述像场(8)，

-其中，至少一个反射镜(M2、M3、M5、M6)实施为用于所述成像光(3)的入射角大于60°的掠入射的反射镜，

-其中，所述投射光学单元(34；35；36；37)在跨越所述像场(8)的两个不同方向上具有两个不同成像比例(β_x、β_y)。

2.如权利要求1所述的投射光学单元，其特征在于，所述物场(4)具有的xy长宽比大于1，其中，所述投射光学单元的所述不同成像比例出现在此长宽比的这两个物场维度(x、y)的方向上。

3.如权利要求2所述的投射光学单元，其特征在于，在较长物场维度(x)中的缩小成像比例比在与所述较长物场维度垂直的较短物场维度(y)中的小。

4.如权利要求1至3中任一项所述的投射光学单元，其特征在于，所述两个不同成像比例中的较小者(β_x)小于6。

5.如权利要求1至4中任一项所述的投射光学单元，其特征在于，所述两个成像比例中的较大者(β_y)至少为6。

6.如权利要求1至5中任一项所述的投射光学单元，其特征在于，所述反射镜中的至少一个具有形式为自由形式表面的反射表面。

7.如权利要求1至6中任一项所述的投射光学单元，其特征在于方向依赖性的物侧数值孔径。

8.如权利要求1至7中任一项所述的投射光学单元，其特征在于，

-具有至少0.4的像侧数值孔径，

-场中心点的物侧主光线角(CRAO)小于7°，

其中，所述像场(8)沿着场维度(x)具有多于13mm的范围。

9.如权利要求8所述的投射光学单元，其特征在于，数值孔径为至少0.5。

10.如权利要求8或9所述的投射光学单元，其特征在于，所述像场(8)在一个场维度(x)中的范围多于20mm。

11.如权利要求2至9中任一项所述的投射光学单元，其特征在于具有光阑边缘的光阑(18)，其沿着较短物场维度(y)的范围比沿着较长物场维度(x)的小。

12.如权利要求1至11中任一项所述的投射光学单元，其特征在于所述反射镜(M1至M8；M1至M6；M1至M7；M1至M9；M1至M11)中的至少两个实施为用于所述成像光(3)的入射角大于60°的掠入射的反射镜(M2、M3；M5、M6；M1、M2；M1、M2、M3；M3、M4；M6、M7；M4、M5；M2至M6；M1至M4；M6至M9)，其在所述成像光(3)的光束路径中布置为一个直接接着另一个。

13.如权利要求12所述的投射光学单元，其特征在于精确的两个用于掠入射的反射镜(M1、M2)。

14.如权利要求1至13中任一项所述的投射光学单元，其特征在于，所述投射光学单元是遮挡的单元。

15.如权利要求1至14中任一项所述的投射光学单元，其特征在于物面(5)，其中布置所述物场(4)，所述物面与其中布置所述像场(8)的像面(9)包括不同于0°的角度。

16.如权利要求1至12中任一项，14或15所述的投射光学单元，其特征在于精确的四个用于掠入射的反射镜(M2、M3、M5、M6)。