[发明专利]张网机台在审

专利信息
申请号: 202010594558.2 申请日: 2020-06-28
公开(公告)号: CN111755631A 公开(公告)日: 2020-10-09
发明(设计)人: 张新建;万永超 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/00
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 李新干
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 机台
【说明书】:

发明公开了一种张网机台,所述张网机台包括机台本体,所述机台本体具有一承载表面,所述承载表面用于承载掩膜框架;多个凹槽孔,所述凹槽孔设置在所述机台本体的所述承载表面,部分所述凹槽孔的底部开设有气孔,部分所述凹槽孔通过所述气孔连通于气浮机构;以及框架间距传感器,所述框架间距传感器设置在部分所述凹槽孔内,所述框架间距传感器用于测量所述掩膜框架的吹起高度。

技术领域

本申请涉及一种显示器技术领域,尤其涉及一种张网机台。

背景技术

在目前的市场中,平板显示包括液晶显示器显示,有机发光二极管显示,等离子显示板显示以及电子墨水屏显示等多种显示方式。其中,有机发光二极管(OrganicLight-Emitting Diode,简称OLED)主要有可自主发光,可设置柔性屏,发光效率高,响应时间快,轻薄,低功耗,高对比度,高色域等优点,是下一代显示器的发展趋势。OLED显示技术主要包括PMOLED(Passive matrix OLED,被动矩阵有机电激发光二极管)显示技术和AMOLED(Active matrix OLED,主动矩阵有机电激发光二极管)显示技术。其中,AMOLED显示技术的实现方式包括“LTPS背板+精细金属掩膜版(FMM Mask)”方式和“Oxide背板+WOLED+彩膜”方式。前者主要应用于小尺寸面板,例如手机和移动产品的显示设计,后者主要应用于大尺寸面板,例如屏幕和电视等应用。现在LTPS背板+FMM Mask的方式已经初步成熟,实现了量产。

在“LTPS背板+精细金属掩膜版(FMM Mask)”方式中,需对高精度金属掩膜版进行张网。在现有张网工艺中,精细金属掩膜(Fine Metal Mask简称FMM张网)最大的两个难点就是焊接、拉力与对抗力(Counter Force,CF)的匹配。在现有张网工艺中,掩膜框架(Frame)是承载在张网机台(Stage)上,两者之间存在的摩擦力对对抗力的准确施加产生极大阻碍。由于掩膜框架会放置在张网设备的机台上,在施加CF的过程中会受到摩擦力作用,存在施加的CF的准确性降低。在管控CF转移过程参数工艺难度增加。

发明内容

为了克服现有技术的不足,本申请实施例提供一种张网机台,能够减小掩膜框架与张网机台之间的摩擦力,确保对抗力的准确性。

本发明实施例提供了一种张网机台,所述张网机台包括机台本体,所述机台本体具有一承载表面,所述承载表面用于承载掩膜框架;

多个凹槽孔,所述凹槽孔设置在所述机台本体的所述承载表面,部分所述凹槽孔的底部开设有气孔,部分所述凹槽孔通过所述气孔连通于气浮机构;以及

框架间距传感器,所述框架间距传感器设置在部分所述凹槽孔内,所述框架间距传感器用于测量所述掩膜框架的吹起高度。

根据本发明实施例所提供的张网机台,所述气孔间隔均匀地设置在部分所述凹槽孔内。

根据本发明实施例所提供的张网机台,所述框架间距传感器间隔均匀地设置在部分所述凹槽孔内。

根据本发明实施例所提供的张网机台,所述框架间距传感器的数量小于所述气孔的数量。

根据本发明实施例所提供的张网机台,所述机台本体呈框架式结构并由多条侧边围合而成,每条所述侧边所对应的所述承载表面均设置有多个所述凹槽孔。

根据本发明实施例所提供的张网机台,每条所述侧边所对应的所述承载表面设置的多个所述凹槽孔为多列排布,相同列的多个所述凹槽孔在所述侧边上的间距相同。

根据本发明实施例所提供的张网机台,每条所述侧边所对应的所述承载表面所设置的多个所述凹槽孔沿两列排布。

根据本发明实施例所提供的张网机台,设置在同一条所述侧边所对应的所述承载表面的多列所述凹槽孔的数量相等。

根据本发明实施例所提供的张网机台,所述凹槽孔为方形或圆形或菱形或球形。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司,未经武汉华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010594558.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top