[发明专利]用于1064纳米波段的全介质反射式光谱合束光栅

权利要求书

1.一种用于1064纳米波段的全介质反射式光谱合束光栅，其特征在于该光栅由上而下依次是三明治结构光栅层、位相匹配层和高反射层，所述的三明治结构光栅层由第一低折射率光栅层(7)、高折射率光栅层(6)和第二低折射率光栅层(5)构成，所述的第一低折射率光栅层(7)、高折射率光栅层(6)的光栅沟槽具有梯形槽型结构，所述的第二低折射率光栅层(5)的光栅沟槽具有矩形结构，所述的位相匹配层由高折射率材料层(4)和低折射率材料层(3)组成，所述的高反射层由多层介质反射膜(2)和光栅基板(1)组成；该光栅的周期Λ为850～900纳米、刻蚀深度(h₁+h₂+h₃)为800纳米～1220纳米，w为光栅顶部的宽度，光栅顶部的占宽比w/Λ为0.24～0.35。

2.根据权利要求1所述的用于1064纳米波段的全介质反射式光谱合束光栅，其特征在于所述的顶部光栅层和位相匹配层使用的低折射率材料为SiO₂；所述的高折射率材料为HfO₂或Ta₂O₅。

3.根据权利要求1或2所述的用于1064纳米波段的全介质反射式光谱合束光栅，其特征在于所述的高反射层的结构为：S(HL)^{^m}H，其中S为低膨胀、高热导光栅光栅基板(1)，主要为碳化硅、金刚石或蓝宝石材料；所述的H和L分别代表多层介质反射膜(2)的高折射率材料和低折射率材料的光学厚度λ_r/4，(λ_r为参考波长)；m代表膜层周期数。