[发明专利]DNA合成仪

权利要求书

1.一种DNA合成仪，至少包括:

多个输送管(1)，每一该输送管(1)具有一输入端(11)、一输送通道(12)以及一输出端(13)；

多个原料瓶(2)，一部分数量的该输送管(1)的该输入端(11)连通该原料瓶(2)；

至少一试剂瓶(21)，剩余一部分数量的该输送管(1)的该输入端(11)连通该试剂瓶(21)；

至少一合成柱(3)，每一该合成柱(3)具有一合成柱导入端(31)、一DNA合成部(32)以及一合成柱导出端(33)，该DNA合成部(32)包含具有一连接一载体(34)的引物，该合成柱导入端(31)连通该输入端(11)；

一真空泵(4)，具有一真空吸取系统(41)、一回收排出管(42)以及一废液排出管(43)，该真空吸取系统(41)连通每一该合成柱(3)，且该真空吸取系统(41)分别连通该回收排出管(42)与该废液排出管(43)，该废液排出管(43)连通一废液瓶(44)，该回收排出管(42)连通一回收瓶(45)；

一蠕动泵(5)，组接于该输送管(1)上；以及

至少一温度控制装置(6)，设置于每一该合成柱(3)上，且该温度控制装置(6)提供一恒温温度。

2.如权利要求1所述的DNA合成仪，其中，每一该原料瓶(2)可装载一溶液，该溶液可包含一末端转移酶(TdT)与一脱氧核糖核苷三磷酸(dNTP)，该脱氧核糖核苷三磷酸(dNTP)可为脱氧腺苷三磷酸(dATP)、脱氧胸苷三磷酸(dTTP)、脱氧胞苷三磷酸(dCTP)或脱氧鸟苷三磷酸(dGTP)。

3.如权利要求2所述的DNA合成仪，其中，该脱氧核糖核苷三磷酸(dNTP)可为一具有未修饰的3'OH或一具有修饰后的3'-O-可逆的保护基团。

4.如权利要求3所述的DNA合成仪，其中，该具有修饰后的3'-O-可逆的保护基团的可逆的保护基团可选自为甲基(Methyl)、2-硝基苄基(2-nitrobenzyl)、2-氰乙基(2-cyanoethyl)、丙烯基(allyl)、胺基(amine)、叠氮基甲基(azidomethyl)以及叔丁氧基乙氧基(tert-butoxy ethoxy,TBE)其中之一。

5.如权利要求1所述的DNA合成仪，其中，该恒温温度介于摄氏32～42度。

6.如权利要求1所述的DNA合成仪，其中，该恒温温度为摄氏37度。

7.如权利要求1所述的DNA合成仪，其中，还包括一具有多个孔洞的固定槽(7)，该多个合成柱(3)可分别插设于所述多个孔洞。

8.如权利要求7所述的DNA合成仪，其中，还包括一固定槽温度控制器(71)，该固定槽温度控制器(71)设置于该固定槽(7)内。

9.如权利要求1所述的DNA合成仪，其中，还包括一节流阀(8)，该节流阀(8)连结设置于该输送通道(12)上，且该节流阀(8)设置于该多个合成柱(3)与该蠕动泵(5)之间。

10.如权利要求1所述的DNA合成仪，其中，还包括一止回阀(9)，该止回阀(9)连结设置于该输送通道(12)上。

11.如权利要求1所述的DNA合成仪，其中，还包括一温度传感器(101)、一流速传感器(102)以及一流量传感器(103)，该温度传感器(101)、该流速传感器(102)以及该流量传感器(103)设置于该输送通道(12)或该输送管(1)上。

12.如权利要求11所述的DNA合成仪，其中，还包括至少一监控显示器(104)，该至少一监控显示器(104)分别电性连接该温度传感器(101)、该流速传感器(102)以及该流量传感器(103)。