[发明专利]数字化曝光控制方法及装置

说明书

一种数字化曝光控制方法，包括：通过一次或多次整版扫描实现对待曝光基板的不同类型功能区的曝光，其中，针对待曝光基板的不同类型功能区的扫描速度不同。本公开提供的数字化曝光控制方法，可以提高数字化曝光产品的良率和产能。

技术领域

本文涉及但不限于显示技术领域，尤指一种数字化曝光控制方法及装置。

背景技术

光刻工艺经常在显示器件的制备过程中使用。传统的光刻工艺是将设计版图图形转变为实体掩模板，再通过紫外光照射到精密的掩膜板上，透过掩膜板图形缝隙的紫外光与光刻胶发生光学反应，从而将掩膜板上的图形完整转移到玻璃基板上。随着技术的发展，目前还可以采用数字光刻工艺。数字光刻工艺是将设计版图图形转变为虚拟掩膜板，通过数字曝光机将虚拟掩膜板上的图形转移到玻璃基板上，可以极大地降低生产成本。

发明内容

以下是对本文详细描述的主题的概述。本概述并非是为了限制权利要求的保护范围。

本公开提供了一种数字化曝光控制方法及装置。

一方面，本公开提供了一种数字化曝光控制方法，包括：通过一次或多次整版扫描实现对待曝光基板的不同类型功能区的曝光，其中，针对所述待曝光基板的不同类型功能区的扫描速度不同。

另一方面，本公开提供了一种数字化曝光控制装置，包括：存储器和处理器，所述存储器存储有计算机程序，所述计算机程序被所述处理器执行时实现如上所述的数字化曝光控制方法。

另一方面，本公开提供了一种计算机可读存储介质，存储有计算机程序，所述计算机程序被执行时实现如上所述的数字化曝光控制方法。

本公开提供的数字化曝光控制方法及装置，可以提高数字化曝光产品的良率和产能。

本公开的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本公开而了解。本公开的其他优点可通过在说明书以及附图中所描述的方案来实现和获得。

附图说明

附图用来提供对本公开技术方案的理解，并且构成说明书的一部分，与本公开的实施例一起用于解释本公开的技术方案，并不构成对本公开技术方案的限制。

图1为一种数字曝光机的DMD阵列的示意图；

图2为一种数字曝光机的曝光路径示意图；

图3为曝光过程中每次扫描的数据传输时长的示意图；

图4为本公开至少一实施例的数字化曝光控制方法的流程图；

图5为本公开至少一实施例的栅格化处理示意图；

图6为本公开至少一实施例的待曝光基板与数字曝光机的载台的对位示意图；

图7包括图7(a)至图7(c)，为本公开至少一实施例的多次整版扫描的示意图；

图8包括图8(a)和图8(b)，为本公开至少一实施例的一次整版扫描的示例图；

图9为DMD阵列反射光强度的均一性示例图；

图10为本公开至少一实施例的多重扫描曝光的示例图；

图11为本公开至少一实施例的扫描强制分割框的示例图；

图12为本公开至少一实施例的扫描边界像素化分割的示例图；

图13为本公开至少一实施例的扫描边界拼接区域的曝光量互补的原理图；

图14为一种曝光图案的示意图；

图15包括图15(a)和图15(b)，为本公开至少一实施例的待曝光图形的获取示例图；