[发明专利]数字化曝光控制方法及装置在审
申请号: | 202010524964.1 | 申请日: | 2020-06-10 |
公开(公告)号: | CN113777888A | 公开(公告)日: | 2021-12-10 |
发明(设计)人: | 栾兴龙;李付强;冯京;王志冲;刘鹏;袁广才;董学 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 蒋冬梅;曲鹏 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 数字化 曝光 控制 方法 装置 | ||
1.一种数字化曝光控制方法,其特征在于,包括:
通过一次或多次整版扫描实现对待曝光基板的不同类型功能区的曝光,其中,针对所述待曝光基板的不同类型功能区的扫描速度不同。
2.根据权利要求1所述的数字化曝光控制方法,其特征在于,不同类型的功能区具有不同的优先级;当通过一次整版扫描实现对待曝光基板的不同类型功能区的曝光,则扫描速度变化发生在优先级较低的功能区内。
3.根据权利要求2所述的数字化曝光控制方法,其特征在于,在一次整版扫描中的任一次扫描中,当数字曝光机的不同镜头的扫描区域对应不同类型的功能区,则采用优先级高的功能区对应的扫描速度进行本次扫描。
4.根据权利要求1所述的数字化曝光控制方法,其特征在于,当通过多次整版扫描实现对所述待曝光基板的不同类型功能区的曝光,则同一类型的功能区通过同一次整版扫描进行曝光。
5.根据权利要求4所述的数字化曝光控制方法,其特征在于,不同类型的功能区具有不同的优先级;根据不同类型功能区的优先级顺序,采用多次整版扫描实现对待曝光基板的不同类型功能区的曝光。
6.根据权利要求1所述的数字化曝光控制方法,其特征在于,在任一次整版扫描过程中,针对任一功能区的任一待曝光图形,通过N次扫描实现N次曝光;其中,在垂直于扫描方向的方向上,第n+1次扫描与第n次扫描之间错位(1/N)×d,d为每次扫描的扫描宽度,且每次扫描的曝光量为M/N,M为设定曝光量;N为正整数,n为小于N的正整数。
7.根据权利要求6所述的数字化曝光控制方法,其特征在于,在所述N次扫描的任一次扫描过程中,数字曝光机的每个镜头进行P次扫描,P为正整数;
其中,相邻两个镜头的扫描区域存在P-1次重叠;或者,每个镜头在每次扫描的曝光量为M/(N×P),且所述镜头在第i次扫描的扫描宽度为(i/P)×d,或者((P+1-i)/P)×d;i为小于或等于P的正整数。
8.根据权利要求1所述的数字化曝光控制方法,其特征在于,在一次整版扫描中的任一次扫描中,数字曝光机的任一镜头根据数字微镜器件DMD阵列的反射均一性,调用所述DMD阵列中的多个连续微镜进行曝光。
9.根据权利要求8所述的数字化曝光控制方法,其特征在于,在启动多个镜头并行曝光时,数字曝光机的不同镜头调用相同数量的连续微镜。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的数字化曝光控制方法,其特征在于,所述数字化曝光控制方法还包括:
获取所述待曝光基板的原始设计图形;
采用具有规则形状的基本单元对所述原始设计图形进行栅格化处理,得到待曝光图形;或者,采用具有规则形状的基本单元对所述原始设计图形进行栅格化处理,得到栅格化图形,对所述栅格化图形进行缩放处理,得到缩放图形,采用所述基本单元对所述缩放图形进行栅格化处理,得到待曝光图形。
11.根据权利要求10所述的数字化曝光控制方法,其特征在于,所述规则形状为正方形。
12.根据权利要求10所述的数字化曝光控制方法,其特征在于,所述原始设计图形中不同的图形单元采用大小不同的基本单元进行栅格化。
13.根据权利要求10所述的数字化曝光控制方法,其特征在于,所述数字化曝光控制方法还包括:
将所述待曝光基板的待曝光图形,根据所述待曝光基板与数字曝光机的对位结果,分配到所述数字曝光机的每个镜头,生成每次扫描所需的数据。
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