[发明专利]触控基板及显示装置在审

专利信息
申请号: 202010414660.X 申请日: 2020-05-15
公开(公告)号: CN113672111A 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 王玉;何帆;徐鹏 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041;G06F3/044
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 于本双
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 触控基板 显示装置
【说明书】:

本申请涉及显示技术领域,公开一种触控基板及显示装置,目的是降低触控电极层不良的检测及维修难度。触控基板包括网格状结构的触控电极层;触控电极层包括分别沿第一方向和第二方向延伸的第一触控电极和第二触控电极;第一触控电极和第二触控电极分别包括第一触控子电极和第二触控子电极,第一触控子电极包括多个第一触控电极网格,第二触控子电极包括多个第二触控电极网格;触控电极层还包括位于相邻第一触控子电极与第二触控子电极之间的多个分界网格,每个分界网格包括至少两个第一网线,第一网线设有第一断口;第一和/或第二触控电极网格中设有具有第二断口的第二网线;第一网线与第二网线图案形状不同;或者分界网格的网线上设有凸出部。

技术领域

本申请涉及显示技术领域,特别涉及一种触控基板及显示装置。

背景技术

目前的触控显示面板设计过程中,存在较多工艺和技术问题,从而导致较多触控(Touch)不良。其中,由于显示区域金属残留(Remain)而导致的触控电极膜层中金属走线之间短路(Short)不良占的比例最大,然而目前对金属残留类不良出现的具体位置进行检测及维修存在很大困难,从而直接影响了触控显示装置的良率提升。

发明内容

本申请公开了一种触控基板及显示装置,目的是改善触控基板的触控电极层结构,降低触控电极层不良的检测及维修难度,提高显示产品良率。

为达到上述目的,本申请提供以下技术方案:

一种触控基板,包括衬底基板和位于所述衬底基板上的触控电极层,所述触控电极层具有由导线组成的网格状结构;

所述触控电极层包括多条沿第一方向延伸的第一触控电极和多条沿第二方向延伸的第二触控电极,所述第一方向和所述第二方向相交;所述第一触控电极包括沿所述第一方向布置的多个第一触控子电极,所述第二触控电极包括沿所述第二方向布置的多个第二触控子电极,所述第一触控子电极包括多个第一触控电极网格,所述第二触控子电极包括多个第二触控电极网格;所述触控电极层还包括位于相邻的第一触控子电极与第二触控子电极之间的多个分界网格,每个所述分界网格中包括至少两个第一网线,每个所述第一网线上设有第一断口,所述多个分界网格中的第一断口使得相邻的所述第一触控子电极和所述第二触控子电极之间绝缘;所述第一触控电极网格和/或所述第二触控电极网格中设有第二网线,所述第二网线上设有第二断口;

所述第一网线与所述第二网线的图案形状不同;或者,所述分界网格中的网线上设有凸出部。

可选的,所述第一网线包括第一断口和第一断线,所述第一断口将所述第一网线断开以形成所述第一断线;

所述第二网线具有第二断口和第二断线,所述第二断口将所述第二网线断开以形成所述第二断线。

可选的,所述第一断线靠近所述第一断口的一端的横截面形状与所述第二断线靠近所述第二断口的一端的横截面形状不同。

可选的,所述第一断线靠近所述第一断口的一端的横截面为非矩形;所述第二断线靠近所述第二断口的一端的横截面为矩形。

可选的,所述第一断线靠近所述第一断口的一端的横截面为扇形或T型。

可选的,所述第一断线的长度与所述第二断线的长度不同。

可选的,所述第一网线包括一个第一断口和分别位于所述第一断口两端的两个第一断线;所述两个第一断线的长度不同;

所述第二网线包括一个第二断口和分别位于所述第二断口两端的两个第二断线;所述两个第二断线的长度相同。

可选的,所述第一断口的间距宽度与所述第二断口的间距宽度不同。

可选的,所述第一断口的间距宽度大于所述第二断口的间距宽度。

可选的,所述第一网线中的第一断线与所述第二网线中的第二断线的数量不同。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010414660.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top