[发明专利]一种化学镀钯还原剂及化学镀钯液在审

专利信息
申请号: 202010373323.0 申请日: 2020-05-06
公开(公告)号: CN111455360A 公开(公告)日: 2020-07-28
发明(设计)人: 郝志峰;黄静梦;许润峰;吴博;胡光辉;王斌;杨应喜;黎小芳;李小兵;刘彬云 申请(专利权)人: 广东工业大学;广东东硕科技有限公司
主分类号: C23C18/44 分类号: C23C18/44
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 陈嘉毅
地址: 510060 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 化学 还原剂 镀钯液
【说明书】:

本发明属于化学镀钯技术领域,具体涉及一种化学镀钯还原剂及化学镀钯液。该化学镀钯还原剂为六次甲基四胺、葡萄糖、乳糖中的一种或几种,绿色环保,改善了传统肼、甲酸、甲醛等还原剂对环境的污染,可以加快钯的沉积,形成致密钯膜,减少钯盐的添加量,大大降低成本,所得化学镀钯液组分简单、稳定性高,制备得到的钯层表面平整、光亮度高,适用于大规模产业化生产,应用前景广阔。

技术领域

本发明属于化学镀钯技术领域。更具体地,涉及一种化学镀钯还原剂及化学镀钯液。

背景技术

传统的化学镍金工艺中,金的沉积是通过镍金置换反应来进行的,由于Ni-P表面的胞状结构以及氰根离子的渗透作用,会使表面电荷分布不均匀,在置换反应过程中造成局部位置的严重腐蚀,导致Ni-P层表面缺乏可焊性而导致焊点强度不足,甚至出现开裂,在开裂后焊盘表面多呈深灰色或黑色,俗称“黑盘”现象。为了解决Ni-P腐蚀造成的“黑盘”问题,可以在镍层与金层之间加入钯层,一方面可以抑制“黑盘”现象产生,另一方面还可以对镍表面起着阻挡的作用,降低焊接时形成化合物(CuNi)6Sn5的可能性。

在印制电路板、IC衬底等的制造以及半导体晶片的金属化过程中,制备钯层或者钯膜有多种技术,化学还原的方法是其中较常用的一种。如中国专利申请CN101228293A公开了一种化学镀钯液,采用次磷酸、亚磷酸、甲酸、乙酸、肼、硼氢化物、胺硼烷化合物和它们的盐的一种作为还原剂,其中的磷酸类和硼烷类会引入P、B等杂元素,进而影响后续的焊接工艺,而肼作为还原剂,随着其消耗,镀覆的速度急剧下降,镀浴稳定性差、寿命短;中国专利申请CN101440486A公开了一种非电解镀钯液,采用甲酸、甲醛及其盐作为还原剂,但是实际应用中发现,采用该还原剂制备的镀钯液存在pH变化大、稳定性差、毒害大、镀液较难处理、镀层光亮度差等缺点。并且,上述大多数还原剂如肼、甲醛及其盐等对环境也有污染。

因此,迫切需要提供一种绿色环保、加快钯沉积的化学镀钯还原剂,提高镀钯液的稳定性,使制备得到的钯层表面平整、光亮度高。

发明内容

本发明要解决的技术问题是克服现有化学镀钯还原剂毒害大、易引入杂元素、镀覆速度慢,镀钯液稳定性差、镀液难处理,镀层平整度、光亮度差等缺陷和不足,提供一种绿色环保、加快钯沉积的化学镀钯液还原剂,提高镀钯液的稳定性,使制备得到的钯层表面平整、光亮度高。

本发明的目的是提供一种化学镀钯还原剂。

本发明另一目的是提供一种化学镀钯液。

本发明上述目的通过以下技术方案实现:

一种化学镀钯还原剂,所述化学镀钯还原剂为六次甲基四胺、葡萄糖、乳糖中的一种或多种。

优选地,所述化学镀钯还原剂为六次甲基四胺。实践中发现,六次甲基四胺不仅可以作为化学镀钯还原剂,同时也是一种弱碱,可以与pH调节剂以及有机酸类促进剂起到缓冲作用,提高化学镀钯液的缓冲能力以及稳定性。

进一步地,所述化学镀钯还原剂使用的浓度为1~25g/L。

优选地,所述化学镀钯还原剂使用的浓度为5~15g/L。实践中发现,在此浓度范围内,可以施镀得到较厚的钯膜,且节省原料,节约成本。

所述六次甲基四胺、葡萄糖、乳糖中的一种或多种组成的化学镀钯还原剂可应用在化学镀钯领域,加快钯的沉积,形成致密钯膜,提高钯膜的厚度、平整度和光亮度。

一种化学镀钯液,所述化学镀钯液的还原剂为六次甲基四胺、葡萄糖、乳糖中的一种或多种。

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