[发明专利]一种具有高抗裂性复合日用陶瓷制品及其制备方法在审
申请号: | 202010367040.5 | 申请日: | 2020-04-30 |
公开(公告)号: | CN111548139A | 公开(公告)日: | 2020-08-18 |
发明(设计)人: | 颜晓刚;颜劲松 | 申请(专利权)人: | 福建省德化县云松陶瓷有限公司 |
主分类号: | C04B35/185 | 分类号: | C04B35/185;C04B35/622;C04B35/80;C04B35/64;C04B35/65;B32B9/00;B32B9/04;B32B15/20;B32B18/00;B32B7/10 |
代理公司: | 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11638 | 代理人: | 王新爱 |
地址: | 362500 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 高抗裂性 复合 日用 陶瓷制品 及其 制备 方法 | ||
本发明公开了一种具有高抗裂性复合日用陶瓷制品及其制备方法,涉及陶瓷制品技术领域,包括莫来石陶瓷层,在莫来石陶瓷层中夹入铝层,以阻止莫来石中应力裂纹的生长;在含氧气氛下、在1700‑1800℃下,使包含氧化铝、二氧化硅及平均粒径为0.1‑l0μm的Si或含Si化合物的原料中加入铝层反应烧结,生成具有高抗裂性复合日用陶瓷制品,其中,所述含Si化合物为SiC、Si3N4、Si2ON2或赛隆,将烧成中的900‑1700℃间的平均升温速度设定为25‑3000C/小时。本发明在莫来石陶瓷层中夹入铝层,以阻止莫来石中应力裂纹的生长,使裂纹不超过特定的尺寸。
技术领域
本发明涉及陶瓷制品技术领域,具体为一种具有高抗裂性复合日用陶瓷制品及其制备方法。
背景技术
传统的陶瓷制品一般采用较传统的颜色如蓝色、大红色等,工艺品通常是通过手工或机器将原料或半成品加工而成的产品,现有的陶瓷制品制备方法太过复杂,且抗裂性效果差。
发明内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足,本发明提供了一种具有高抗裂性复合日用陶瓷制品及其制备方法,解决了现有的陶瓷制品制备方法太过复杂,且抗裂性效果差的问题。
(二)技术方案
为实现以上目的,本发明通过以下技术方案予以实现:一种具有高抗裂性复合日用陶瓷制品及其制备方法,包括莫来石陶瓷层,在莫来石陶瓷层中夹入铝层,以阻止莫来石中应力裂纹的生长。
优选的,所述莫来石陶瓷层在研磨截面中,含有长宽比为1以上且2以下的莫来石的球状粒子及长宽比为超过2且10以下的莫来石的针状粒子,并且球状粒子的平均粒径为5-l0um,针状粒子的平均长径为球状粒子的平均粒径的2-10倍,而且针状粒子的长径为12-90um,针状粒子的面积/全部粒子的面积的比为0.03-0.3。
优选的,所述莫来石陶瓷层研磨截面中的长宽比超过10的粗大针状粒子的面积/全部粒子的面积的比为0.2以下。
优选的,所述莫来石陶瓷层表观气孔率为5-27%。
优选的,所述莫来石陶瓷层在研磨截面中,具有针状粒子的平均长径的5倍以上的长径的粗大气孔的面积的总和相对于观察视野的面积的比例为0.07以下。
优选的,所述莫来石陶瓷层在研磨截面中,具有针状粒子的平均长径的5倍以上的长径的粗大气孔的面积的总和相对于观察视野的面积的比例为0.07以下。
优选的,一种具有高抗裂性复合日用陶瓷制品的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:在含氧气氛下、在1700-1800℃下,使包含氧化铝、二氧化硅及平均粒径为0.1-l0μm的Si或含Si化合物的原料中加入铝层反应烧结,生成具有高抗裂性复合日用陶瓷制品,其中,所述含Si化合物为SiC、Si3N4、Si2ON2或赛隆,将烧成中的900-1700℃间的平均升温速度设定为25-3000C/小时。
进一步的,通过湿式混合将氧化铝、二氧化硅及所述平均粒径为0.1-l0μm的Si或含Si化合物浆料化,在将所得到的浆料浇铸成型或者将该浆料喷雾干燥并将所得到的颗粒冲压成型或CIP成型后进行反应烧成。
进一步的,通过半湿式将氧化铝、二氧化硅及所述平均粒径为0.1-l0μm的Si或含Si化合物混炼,在将所得到的混炼物可塑成型后进行反应烧成。
(三)有益效果
本发明提供了一种具有高抗裂性复合日用陶瓷制品及其制备方法,具备以下有益效果:
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