[发明专利]基于二维特征的反射式几何全息膜及其制备方法和应用

权利要求书

1.基于二维特征的反射式几何全息膜，其特征在于：包括基元膜（1）和若干阵列设置在基元膜（1）表面上的、横截面为直角三角形的柱状基元棱镜（2）；

所述柱状基元棱镜（2）横截面的斜边所在的面均与基元膜（1）表面贴合，所述基元膜（1）内部、沿柱状基元棱镜（2）的长度方向设有若干相间排列的透明层（11）和反射层（12）；

所述柱状基元棱镜（2）横截面的直角边所在的斜面（21）上设置有一层反射膜（3），用于对光线进行镜面反射；

所述柱状基元棱镜（2）横截面包含的直角以及透明层（11）和反射层（12）与柱状基元棱镜（2）的长度方向所成角度的误差范围在±5°以内。

2.根据权利要求1所述的基于二维特征的反射式几何全息膜，其特征在于：所述柱状基元棱镜（2）横截面的直角三角形的斜边长度为a㎜， a≤2㎜。

3.根据权利要求1所述的基于二维特征的反射式几何全息膜，其特征在于：所述柱状基元棱镜（2）的横截面为等腰直角三角形。

4.根据权利要求1所述的基于二维特征的反射式几何全息膜，其特征在于：所述柱状基元棱镜（2）的端面和/或基元膜（1）与透明层（11）平行的端面也设置有一层反射膜（3）。

5.根据权利要求1所述的基于二维特征的反射式几何全息膜，其特征在于：所述基于二维特征的反射式几何全息膜为柔性膜。

6.根据权利要求5所述的基于二维特征的反射式几何全息膜，其特征在于：所述基于二维特征的反射式几何全息膜的水平夹持下垂长度为L㎝，可对折次数为n，满足：

L≥5或者n*L＞9。

7.根据权利要求1所述的基于二维特征的反射式几何全息膜，其特征在于：所述基元膜（1）的底面和反射膜（3）上分别设有保护膜，其中所述基元膜（1）的底面上设有的保护膜为透明保护膜。

8.根据权利要求1～7任意一项所述的基于二维特征的反射式几何全息膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

准备一张透明层（11）与反射层（12）相间排列的基元膜（1）以及一张与基元膜（1）对应透明膜；

将透明膜粘接于基元膜（1）的表面，沿垂直于透明层（11）与反射层（12）的方向上对透明膜进行切削，形成一层是基元膜（1）、另一层是阵列的横截面为直角三角形的柱状基元棱镜（2）排列形成的起伏锯齿状表面的膜，切削方向的误差范围在±5°以内；

在柱状基元棱镜（2）的端面以及横截面的直角边所在的斜面（21）上镀一层反射膜（3），即可获得基于二维特征的反射式几何全息膜。

9.根据权利要求8所述的基于二维特征的反射式几何全息膜的制备方法，其特征在于，步骤2）用以下方法替代：先将透明膜切削成若干个与基元膜（1）对应的柱状基元棱镜（2），再将柱状基元棱镜（2）沿垂直于透明层（11）与反射层（12）的方向粘接在基元膜（1）的表面，粘接方向的误差范围在±5°以内。

10.根据权利要求8所述的基于二维特征的反射式几何全息膜的制备方法，其特征在于：在步骤2）之前或者之后，在基元膜（1）的底面上粘接一层透明保护膜。

11.根据权利要求8所述的基于二维特征的反射式几何全息膜的制备方法，其特征在于：在步骤3）之后在设置有反射膜（3）的锯齿状起伏表面粘接一层保护膜。

12.根据权利要求8所述的基于二维特征的反射式几何全息膜的制备方法制备的基于二维特征的反射式几何全息膜应用于反射式几何全息显示系统。