[发明专利]低温风洞系统

权利要求书

1.一种低温风洞系统(10)，包括：

制冷装置(20)，所述制冷装置构造成生成低温气体；

输气管道(30)，所述输气管道具有试验区段(32)；

雾化喷淋装置(38)，所述雾化喷淋装置(38)用于在输气管道(30)内添加雾化的液滴；以及

气流驱动装置，所述气流驱动装置构造成利用所述制冷装置生成的低温气体，驱动所述输气管道内的空气沿所述输气管道行进至所述试验区段；

其特征在于，所述气流驱动装置为引射器，所述制冷装置位于所述输气管道之外，并且所述制冷装置(20)通过空气循环制冷产生低温气体作为引射器的主流被送入所述引射器并由所述引射器驱动所述输气管道内的气体流动。

2.如权利要求1所述的低温风洞系统，其特征在于，所述引射器为环形引射器(50)，所述环形引射器具有布置在所述输气管道内的环形引射喷嘴(52)，由所述制冷装置产生的所述低温气体被引入所述环形引射器以作为所述环形引射器的主流气体，所述主流气体驱动位于所述输气管道内的被引射气流，由所述制冷装置产生的低温气体的压力大于所述输气管道内的所述被引射气流的压力。

3.如权利要求1所述的低温风洞系统，其特征在于，所述制冷装置包括压气机和膨胀涡轮。

4.如权利要求1所述的低温风洞系统，其特征在于，所述输气管道(30)上设有排气部(36)，所述输气管道中的气体受控地从排气部排出。

5.如权利要求4所述的低温风洞系统，其特征在于，所述排气部与所述制冷装置流体连通，以使从所述排气部排出的气体回流到所述制冷装置以便再次冷却，并且所述排气部位于所述试验区段和所述试验区段之间的输气管道上。

6.如权利要求2所述的低温风洞系统，其特征在于，所述环形引射器(50)的环形引射喷嘴(52)与所述输气管道的横截面基本同心地布置在所述输气管道中。

7.如权利要求2或5所述的低温风洞系统，其特征在于，所述输气管道构成环形，以使所述低温气体中的至少一部分在所述输气管道中循环流动，所述输气管道内的所述被引射气流穿过所述环形引射喷嘴围绕的中空空间流过所述环形引射器。

8.如权利要求1所述的低温风洞系统，其特征在于，在所述低温风洞系统的正常运行中，所述主流气体的温度比所述被引射气流的温度低10－15摄氏度。

9.如权利要求1所述低温风洞系统，其特征在于，所述试验区段具有长度L1，所述环形引射器与所述试验区段之间的输气管道具有长度L2，所述长度L2为所述长度L1的5倍以上。

10.如权利要求2所述的低温风洞系统，其特征在于，所述环形引射器具有围绕所述输气管道布置的环形腔，所述环形腔具有进气口，所述进气口接收来自所述制冷装置的低温气体。