[发明专利]双向扫描的拼接错位补偿方法和无掩膜光刻设备有效
申请号: | 202010260623.8 | 申请日: | 2020-04-03 |
公开(公告)号: | CN111552151B | 公开(公告)日: | 2022-06-14 |
发明(设计)人: | 卞洪飞;董帅;徐晚晴 | 申请(专利权)人: | 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京景闻知识产权代理有限公司 11742 | 代理人: | 贾玉姣 |
地址: | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 双向 扫描 拼接 错位 补偿 方法 无掩膜 光刻 设备 | ||
本发明提出了一种基于双向扫描的拼接错位补偿方法和无掩膜光刻设备,该拼接方法包括:获取扫描速度;根据扫描速度和扫描延时时间计算正向扫描延时距离和反向扫描延时距离;根据正向扫描延时距离调整正向扫描理论起始点坐标;根据反向扫描延时距离调整反向扫描理论起始点坐标;根据正向扫描起始点坐标获得正向扫描曝光数据,以及根据反向扫描起始点坐标获得反向扫描曝光数据;将正向扫描曝光数据和反向扫描曝光数据进行拼接。根据本发明实施例的基于双向扫描的拼接错位补偿方法,通过补偿正向扫描起始点坐标和反向扫描起始点坐标,解决不同速度扫描过程中的拼接错位问题。
技术领域
本发明涉及光刻技术领域,尤其是涉及一种基于双向扫描的拼接错位补偿方法和无掩膜光刻设备。
背景技术
无掩膜光刻是利用空间光调制器将曝光图像转移到感光材料上成像的技术。扫描式曝光时采用平台匀速运动并以一定的扫描步长刷新图形的方式实现条带扫描曝光,在扫描过程中,扫描方式可以分为单向扫描和双向扫描,双向扫描平台是按照蛇形方式运动,由于其具有较高的产能,以成为主流形式。
但是,在双向扫描过程中,由于曝光出图存在延时,造成拼接处扫描方向错位,影响曝光图形解析,特别是对于横线解析。
发明内容
本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本发明的一个目的在于提出一种基于双向扫描的拼接错位补偿方法,该方法可以减少扫描拼接错位,提高曝光图像解析质量。
本发明的第二个目的在于提出一种无掩膜光刻设备。
为了达到上述目的,本发明的第一方面实施例提出了一种基于双向扫描的拼接错位补偿方法,该方法包括:获取扫描速度;根据所述扫描速度计算正向扫描延时距离和反向扫描延时距离;根据所述正向扫描延时距离调整正向扫描理论起始点坐标以获得正向扫描起始点坐标,以及,根据所述反向扫描延时距离调整反向扫描理论起始点坐标以获得反向扫描起始点坐标;根据所述正向扫描起始点坐标获得正向扫描曝光数据,以及根据所述反向扫描起始点坐标获得反向扫描曝光数据;将所述正向扫描曝光数据和所述反向扫描曝光数据进行拼接。
根据本发明实施例的基于双向扫描的拼接错位补偿方法,在不同扫描速度下,得到对应的正向扫描延时距离和反向扫描延时距离,调整正向扫描理论起始点坐标和反向扫描理论起始点坐标,即通过对扫描理论起始点坐标进行调整,补偿因曝光出图延时造成曝光图像在扫描方向上的位置偏移,使得正向扫描曝光图像起始点与反向扫描曝光图像结束点在步进方向上能够对齐,从而可以避免曝光数据拼接错位,提高曝光图形的解析质量。
在一些实施例中,根据所述扫描速度计算正向扫描延时距离包括:;根据所述扫描速度和所述正向延时时间计算所述正向扫描延时距离;
在一些实施例中,根据所述扫描速度计算反向扫描延时距离包括:;根据所述扫描速度和所述反向延时时间计算所述反向扫描延时距离。
在一些实施例中,根据所述正向扫描延时距离调整正向扫描理论起始点坐标以获得正向扫描起始点坐标包括:将所述正向扫描理论起始点坐标减去所述正向扫描延时距离,以获得所述正向扫描起始点坐标。
在一些实施例中,根据所述反向扫描延时距离调整反向扫描理论起始点坐标以获得反向扫描起始点坐标包括:将所述反向扫描理论起始点坐标加上所述反向扫描延时距离,以获得所述反向扫描起始点坐标。
为了达到上述目的,本发明的第二个目的在于提出一种无掩膜光刻设备,该设备包括:移动平台、主控制器和平台控制器,主控制器与所述平台控制器通信连接,所述主控制器用于上面实施例所述的基于双向扫描的拼接错位补偿方法,并发送控制指令给所述平台控制器,所述平台控制器根据所述控制指令控制所述移动平台移动。
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