[发明专利]用于形成具有有机硅元件的熔断器的方法

权利要求书

1.一种形成熔断器组件的方法，包括：

提供可熔元件；以及

在所述可熔元件上沉积有机硅材料，其中所述有机硅材料被以多个角度递送到所述可熔元件。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述有机硅材料被沿着以下中的每个形成：所述可熔元件的上表面、所述可熔元件的下表面和所述可熔元件的侧表面。

3.根据权利要求1所述的方法，还包括将所述有机硅材料沉积为一系列液滴。

4.根据权利要求1所述的方法，还包括使用等离子喷射器沉积所述有机硅材料。

5.根据权利要求4所述的方法，还包括当沉积所述有机硅材料时，在“开”和“关”状态之间循环所述等离子喷射器。

6.根据权利要求4所述的方法，还包括使所述等离子喷射器和所述可熔元件相对于彼此旋转，以围绕所述可熔元件形成所述有机硅材料。

7.根据权利要求4所述的方法，还包括在沉积所述有机硅材料时，将所述等离子喷射器与所述可熔元件间隔开。

8.根据权利要求4所述的方法，还包括在所述等离子喷射器保持在相对于所述可熔元件的至少四个不同位置中的每个位置处时将所述有机硅材料递送至所述可熔元件。

9.一种用于在可熔元件上沉积有机硅材料的方法，包括：

提供所述可熔元件，所述可熔元件包括一系列由桥连接的实心部分；以及

在所述可熔元件上沉积所述有机硅材料，其中所述有机硅材料以多个角度递送到所述可熔元件，以沿以下中的每个形成所述有机硅材料：所述可熔元件的上表面、所述可熔元件的下表面和所述可熔元件的侧表面。

10.根据权利要求9所述的方法，还包括使用等离子喷射器沉积所述有机硅材料。

11.根据权利要求10所述的方法，还包括当沉积所述有机硅材料时，在“开”和“关”状态之间循环所述等离子喷射器。

12.根据权利要求10所述的方法，还包括使所述等离子喷射器和所述可熔元件相对于彼此旋转，以围绕所述可熔元件形成所述有机硅材料。

13.根据权利要求10所述的方法，还包括将所述有机硅材料沉积为一系列液滴。

14.根据权利要求10所述的方法，还包括在沉积所述有机硅材料时，将所述等离子喷射器与所述可熔元件分离开。

15.根据权利要求10所述的方法，还包括在所述等离子喷射器保持在相对于所述可熔元件的至少四个不同位置中的每个位置处时将所述有机硅材料递送至所述可熔元件。

16.根据权利要求9所述的方法，还包括在所述可熔元件的第一端部和第二端部之间的多个点处，围绕所述可熔元件形成所述有机硅材料。

17.一种形成熔断器组件的方法，包括：

提供可熔元件；以及

围绕所述可熔元件形成消弧带，其中所述消弧带的材料被以多个角度递送到所述可熔元件。

18.根据权利要求17所述的方法，还包括沿着以下中的每个形成所述消弧带：所述可熔元件的上表面、所述可熔元件的下表面和所述可熔元件的侧表面。

19.根据权利要求17所述的方法，其中形成所述消弧带包括使用等离子喷射器在所述可熔元件上将有机硅材料沉积为一系列液滴，并且其中，所述有机硅材料在所述等离子喷射器和所述可熔元件相对于彼此旋转时被沉积。

20.根据权利要求19所述的方法，还包括在“开”和“关”状态之间循环所述等离子喷射器来将所述有机硅材料沉积为所述一系列液滴。