[发明专利]一种平面研磨清洗剂及其制备方法

权利要求书

1.一种平面研磨清洗剂，其特征在于，由如下重量份的各组分制成：氯甲基磷酸离子化改性N-[(5-甲基-1H-苯并三唑-1-基)甲基]二乙醇胺/聚乙二醇二羧酸缩聚物25-35份、超支化表面活性剂10-15份、非离子表面活性剂10-20份、烟酰胺腺嘌呤双核苷酸5-8份、水30-50份。

2.根据权利要求1所述平面研磨清洗剂，其特征在于，所述氯甲基磷酸离子化改性N-[(5-甲基-1H-苯并三唑-1-基)甲基]二乙醇胺/聚乙二醇二羧酸缩聚物的制备方法，包括如下步骤：

步骤S1、将N-[(5-甲基-1H-苯并三唑-1-基)甲基]二乙醇胺、聚乙二醇二羧酸溶于高沸点溶剂中，再向其中加入4-二甲氨基吡啶、1-乙基-(3-二甲基氨基丙基)碳酰二亚胺盐酸盐，在70-80℃下搅拌反应8-12小时，后在水中沉出，将沉出的聚合物置于真空干燥箱80-90℃下干燥至恒重，得到N-[(5-甲基-1H-苯并三唑-1-基)甲基]二乙醇胺/聚乙二醇二羧酸缩聚物；

步骤S2、离子化：将经过步骤S1制成的N-[(5-甲基-1H-苯并三唑-1-基)甲基]二乙醇胺/聚乙二醇二羧酸缩聚物加入到N-甲基吡咯烷酮中，然后向其中加入氯甲基磷酸，在40-60℃下搅拌反应6-8小时，后旋蒸除去N-甲基吡咯烷酮，再将得到的产物溶于水中，并置于透析袋内在水中透析13-18h，除去小分子物质，接着将透析袋内层的溶液旋蒸除去水，得到氯甲基磷酸离子化改性N-[(5-甲基-1H-苯并三唑-1-基)甲基]二乙醇胺/聚乙二醇二羧酸缩聚物。

3.根据权利要求2所述平面研磨清洗剂，其特征在于，步骤S1中所述N-[(5-甲基-1H-苯并三唑-1-基)甲基]二乙醇胺、聚乙二醇二羧酸、高沸点溶剂、4-二甲氨基吡啶、1-乙基-(3-二甲基氨基丙基)碳酰二亚胺盐酸盐的摩尔比为1:1:(6-10):(0.8-1.2):0.5。

4.根据权利要求2所述平面研磨清洗剂，其特征在于，所述聚乙二醇二羧酸的数均分子量为600。

5.根据权利要求2所述平面研磨清洗剂，其特征在于，所述高沸点溶剂为二甲亚砜、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮中的至少一种。

6.根据权利要求2所述平面研磨清洗剂，其特征在于，步骤S2中所述N-[(5-甲基-1H-苯并三唑-1-基)甲基]二乙醇胺/聚乙二醇二羧酸缩聚物、N-甲基吡咯烷酮、氯甲基磷酸的质量比为3:(10-20):(0.5-1)。

7.根据权利要求1所述平面研磨清洗剂，其特征在于，所述非离子表面活性剂为月桂醇聚氧乙烯醚、辛醇聚氧乙烯醚中的至少一种。

8.根据权利要求1-7任一项所述平面研磨清洗剂，其特征在于，所述平面研磨清洗剂的制备方法，包括如下步骤：将各组分按重量份混合均匀后，在60-80℃下超声15-20分钟，后冷却至室温，出料，检验合格后包装，即得平面研磨清洗剂。