[发明专利]一种清洗装置

说明书

本发明实施例公开了一种清洗装置。该清洗装置包括：清洗槽和支撑件，清洗槽包括至少一组第一进液口组和/或一组第二进液口组；支撑件位于清洗槽中，支撑件用于支撑固定掩膜版且使掩膜版的待清洗面与清洗槽的槽底垂直；其中，每组第一进液口组包括两个第一进液口，在掩膜版固定于支撑件上时，在每组第一进液口组中，两个第一进液口分别位于掩膜版的两对侧，且两个第一进液口间的连线与待清洗面垂直；和/或第二进液口组包括至少一个第二进液口，在掩膜版固定于支撑件上时，各第二进液口与其相对的掩膜版的外框在清洗槽上的正投影相交叠。本发明实施例提供的技术方案可以降低掩膜版平面所受法向冲击力，从而避免掩膜版发生褶皱。

技术领域

本发明涉及清洗设备技术领域，尤其涉及一种清洗装置。

背景技术

掩膜版是制造OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示屏的重要部件，例如采用真空蒸镀技术制备有机发光层时，有机材料通过高温蒸镀淀积在位于蒸发源上方的背板上，为使有机材料按照设计蒸镀到特定的位置上，在背板下方需使用高精度金属掩膜版，掩膜版(即高精度金属掩膜版板)上留有预先设计好的有效开口区域，通过该有效开口区域，有机材料沉积到背板上面，形成预设图形。

掩膜版在使用一段时间后，表面会沉积有机或金属材料层，当有机或金属材料层达到一定厚度后就需要定期清洗，否则材料层或脱落或堵塞掩膜版空隙，影响制程。

通常将掩膜版置于掩膜版清洗机中进行清洗，将掩膜版置于装有相关液体的槽体中，槽体中的液体的不规则流动，会对精密掩膜版产生冲击力，导致掩膜版褶皱。

发明内容

本发明实施例提供一种清洗装置，可以降低掩膜版平面所受法向冲击力，进而避免掩膜版产生褶皱。

本发明实施例提供了一种清洗装置，包括：

清洗槽，清洗槽包括至少一组第一进液口组和/或一组第二进液口组；

支撑件，位于清洗槽中，用于支撑固定掩膜版且使掩膜版的待清洗面与清洗槽的槽底垂直；

其中，每组第一进液口组包括两个第一进液口，在掩膜版固定于支撑件上时，在每组第一进液口组中，两个第一进液口分别位于掩膜版的两对侧，且两个第一进液口间的连线与待清洗面垂直；和/或第二进液口组包括至少一个第二进液口，在掩膜版固定于支撑件上时，各第二进液口与其相对的掩膜版的外框在清洗槽上的正投影相交叠。

进一步地，两个第一进液口的孔径相同。

进一步地，两个第一进液口关于掩膜版对称分布。

进一步地，各第二进液口位于与其相对的掩膜版的外框在清洗槽上的正投影内。

进一步地，清洗槽包括相对设置的两个第一槽侧壁和相对设置的两个第二槽侧壁，第一槽侧壁与待清洗面平行；

在一组第一进液口组中，两个第一进液口位于槽底和/或第一槽侧壁上；和/或第二进液口位于槽底和/或第二槽侧壁上。

进一步地，两个第一槽侧壁关于掩膜版对称分布。

进一步地，沿垂直于槽底的方向，第一槽侧壁与第二槽侧壁的高度相同，或第一槽侧壁的高度低于第二槽侧壁的高度，或第二槽侧壁的高度低于第一槽侧壁的高度。

进一步地，清洗装置还包括溢流槽和动力机构；溢流槽包括至少一个出液口，溢流槽位于清洗槽的至少一侧，溢流槽用于盛装清洗槽溢出的清洗液；动力机构包括抽液端和排液端，抽液端与出液口连通，排液端与第一进液口和/或第二进液口连通，动力机构用于循环清洗槽内的清洗液；

优选地，清洗装置包括分别位于清洗槽的两对侧的溢流槽；

优选地，分别位于清洗槽的两对侧的溢流槽的出液口的孔径相同。