[发明专利]一种清洗装置

权利要求书

1.一种清洗装置，其特征在于，包括：

清洗槽，所述清洗槽包括至少一组第一进液口组和至少一组第二进液口组；

支撑件，位于所述清洗槽中，用于支撑固定掩膜版且使掩膜版的待清洗面与所述清洗槽的槽底垂直；

其中，每组所述第一进液口组包括两个第一进液口，在掩膜版固定于所述支撑件上时，在每组所述第一进液口组中，所述两个第一进液口分别位于所述掩膜版的两对侧，且所述两个第一进液口间的连线与所述待清洗面垂直，以降低所述掩膜版两侧的清洗液向对侧流动产生的法向冲击力；所述第二进液口组包括至少一个第二进液口，在掩膜版固定于所述支撑件上时，各所述第二进液口与其相对的所述掩膜版的外框在所述清洗槽上的正投影相交叠；所述第二进液口流入的清洗液直接对掩膜版的外框产生冲击力，经掩膜版的外框抵挡一部分清洗液的冲击力后，清洗液在外框处再分流向掩膜版的两侧流动，使得清洗液产生的垂直于待清洗面的法向冲击力减小；

其中，所述清洗槽用于盛装清洗液，所述清洗液没过所述掩膜版，所述掩膜版上设置有多个通孔，所述通孔的延伸方向垂直于所述掩膜版的待清洗面，所述掩膜版的外框位于所述掩膜版的侧面，所述掩膜版的侧面垂直于所述待清洗面。

2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述两个第一进液口的孔径相同。

3.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述两个第一进液口关于所述掩膜版对称分布。

4.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，各所述第二进液口位于与其相对的所述掩膜版的外框在所述清洗槽上的正投影内。

5.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗槽包括相对设置的两个第一槽侧壁和相对设置的两个第二槽侧壁，所述第一槽侧壁与所述待清洗面平行；

在一组所述第一进液口组中，所述两个第一进液口位于所述槽底和/或所述第一槽侧壁上；和/或所述第二进液口位于所述槽底和/或所述第二槽侧壁上。

6.根据权利要求5所述的清洗装置，其特征在于，所述两个第一槽侧壁关于所述掩膜版对称分布。

7.根据权利要求5所述的清洗装置，其特征在于，沿垂直于所述槽底的方向，所述第一槽侧壁与所述第二槽侧壁的高度相同，或所述第一槽侧壁的高度低于所述第二槽侧壁的高度，或所述第二槽侧壁的高度低于所述第一槽侧壁的高度。

8.根据权利要求1至7任一项所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括溢流槽和动力机构；所述溢流槽包括至少一个出液口，所述溢流槽位于所述清洗槽的至少一侧，所述溢流槽用于盛装所述清洗槽溢出的清洗液；所述动力机构包括抽液端和排液端，所述抽液端与所述出液口连通，所述排液端与所述第一进液口和/或所述第二进液口连通，所述动力机构用于循环所述清洗槽内的清洗液；

所述清洗装置包括分别位于所述清洗槽的两对侧的所述溢流槽；

分别位于所述清洗槽的两对侧的所述溢流槽的出液口的孔径相同。

9.根据权利要求8所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗槽包括相对设置的两个第一槽侧壁和相对设置的两个第二槽侧壁，所述第一槽侧壁与所述待清洗面平行；

两个所述溢流槽分别与所述两个第一槽侧壁相邻，在一组所述第一进液口组中，所述两个第一进液口位于所述槽底；和/或所述第二进液口位于所述槽底和/或所述第二槽侧壁上；

沿垂直于所述槽底的方向，所述第一槽侧壁的高度低于所述第二槽侧壁的高度。

10.根据权利要求8所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗槽包括相对设置的两个第一槽侧壁和相对设置的两个第二槽侧壁，所述第一槽侧壁与所述待清洗面平行；

两个所述溢流槽分别与所述两个第二槽侧壁相邻，在一组所述第一进液口组中，所述两个第一进液口位于所述槽底或所述第一槽侧壁上；和/或所述第二进液口位于所述槽底；

沿垂直于所述槽底的方向，所述第二槽侧壁的高度低于所述第一槽侧壁的高度。