[发明专利]一种清洗蓝宝石晶片表面的方法在审
| 申请号: | 202010147132.2 | 申请日: | 2020-03-05 |
| 公开(公告)号: | CN111375592A | 公开(公告)日: | 2020-07-07 |
| 发明(设计)人: | 洪文庆 | 申请(专利权)人: | 锐捷光电科技(江苏)有限公司 |
| 主分类号: | B08B3/08 | 分类号: | B08B3/08;B08B3/10;B08B3/02;B08B3/12;B08B13/00;F26B5/08 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 215600 江苏省苏州市张家*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 清洗 蓝宝石 晶片 表面 方法 | ||
本发明涉及蓝宝石产品加工技术领域,特别涉及一种清洗蓝宝石晶片表面的方法,通过采用硫酸与纯水的混合溶液在双氧水中进行115摄氏度下进行浸泡,对蓝宝石晶片的外表面进行预处理,且经过使用氨水在超声波环境下进行浸泡15分钟,对蓝宝石的外表面进行深度的清洗,且采用旋干机进行干燥,进而提高蓝宝石晶片的外表面清洗的洁净度,通过在用石英槽、快排冲洗槽和超声波以及旋干机对蓝宝石晶片进行清洗,提高蓝宝石晶片清洗的稳定性和降低人工清洗的劳动强度,以及提高蓝宝石晶片清洗的洁净度,便于使用,且有效的提高蓝宝石加工的效率。
技术领域
本发明涉及蓝宝石产品加工技术领域,特别涉及一种清洗蓝宝石晶片表面的方法。
背景技术
蓝宝石是刚玉宝石中除红色的红宝石之外,其他颜色刚玉宝石的通称,主要成分是氧化铝,天然的蓝宝石与人工合成蓝宝石成分一样,蓝宝石具有硬度高、熔点高、透光性好、电绝缘性优良、化学性能稳定等优点,广泛应用于机械、光学、信息等高技术领域;
但蓝宝石晶片加工制造过程中,特别是丝印后烘烤时,由于静电和其较好的吸附性,晶片表面极易吸附环境中的各种尘埃、杂质、污染物,在高温烘烤条件下将其固化在晶片表面,同时激光切割、打孔时,被加工部位,氧化铝、表层的油墨瞬间高温熔化或气化,孔内残留大量熔融杂质,孔周围附着大量粉尘;
整个晶体加工过程中,在蓝宝石镜片表面上的杂质可分为无机物型、有机物型等,主要有油脂、树脂、氧化铝粉尘以及其他杂质等,因此清洗工艺的选择成为蓝宝石晶片加工制程中重要的一环;
在对蓝宝石的表面进行清洗时,目前整个行业中清洗方法虽然各异,但一次清洗成功率低,由人工清洗且清洗稳定性差。
发明内容
本发明的目的在于提供一种清洗蓝宝石晶片表面的方法,以解决上述背景技术中提出的现有的清洗方法一次清洗成功率较低,往往需要多次反洗,清洗稳定性差的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:在进行清洗时,包括以下步骤:
步骤1:先将蓝宝石晶片放置电子级硫酸和纯水的混合液中,且硫酸与纯水按照重量份数进行配比飞比例为:硫酸5份:纯水1份的比例进行制配,使用石英槽,在石英槽的内部加入300毫升的双氧水,并将硫酸与纯水的混合溶液及蓝宝石晶片置于双氧水中,并将石英槽加热至115摄氏度,使蓝宝石晶片静止浸泡20分钟;
步骤2:将浸泡20分钟的蓝宝石晶片从石英槽的内部取出,并转入到快排冲洗槽的内部,进行循环冲洗一次,将蓝宝石晶片上的硫酸进行冲洗掉,进而避免硫酸对下一步清洗带来影响,造成清洗能力下降;
步骤3:将在快排冲洗槽内进行冲洗循环一次后的蓝宝石晶片放入到氨水、双氧水及纯水的混合液中,且氨水、双氧水及纯水按重量份数进行配比的比例为,氨水1份:双氧水1份:纯水8份,并将蓝宝石晶片及氨水、双氧水及纯水的混合溶液置于石英槽的内部,将石英槽加热至70摄氏度,并开启石英槽的超声波功能,使得氨水、双氧水及纯水的混合溶液在超声波的作用下,对蓝宝石晶片进行清洗浸泡15分钟;
步骤4:将在超声波功能下清洗浸泡15分钟后的蓝宝石晶片取出,并置于快排冲洗槽内,并进行冲洗循环4次,冲洗掉蓝宝石晶片的外表面上残留的氨水、双氧水及纯水的混合溶液,并对蓝宝石晶片的外表面进行彻底的冲洗;
步骤5:将在快排冲洗槽内进行循环冲洗4次的蓝宝石晶片取出,并置于旋干机中,使得旋干机带动蓝宝石晶片快速转动,进而旋干掉蓝宝石晶片外表面上多余的水分,并且在旋干机转动时,加入HN2使得蓝宝石晶片可以得到快速干燥;
通过步骤1的预处理,且经过步骤2、步骤3和步骤4的清洗处理以及经过步骤5的干燥处理,进而使得蓝宝石晶片的外表面清洗的更加洁净,且不会对蓝宝石晶片的外表面产生损害。
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