[发明专利]一种清洗蓝宝石晶片表面的方法在审
| 申请号: | 202010147132.2 | 申请日: | 2020-03-05 |
| 公开(公告)号: | CN111375592A | 公开(公告)日: | 2020-07-07 |
| 发明(设计)人: | 洪文庆 | 申请(专利权)人: | 锐捷光电科技(江苏)有限公司 |
| 主分类号: | B08B3/08 | 分类号: | B08B3/08;B08B3/10;B08B3/02;B08B3/12;B08B13/00;F26B5/08 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 215600 江苏省苏州市张家*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 清洗 蓝宝石 晶片 表面 方法 | ||
1.一种清洗蓝宝石晶片表面的方法,在进行清洗时,包括以下步骤:
步骤1:先将蓝宝石晶片放置电子级硫酸和纯水的混合液中,且硫酸与纯水按照重量份数进行配比飞比例为:硫酸5份:纯水1份的比例进行制配,使用石英槽,在石英槽的内部加入300毫升的双氧水,并将硫酸与纯水的混合溶液及蓝宝石晶片置于双氧水中,并将石英槽加热至115摄氏度,使蓝宝石晶片静止浸泡20分钟;
步骤2:将浸泡20分钟的蓝宝石晶片从石英槽的内部取出,并转入到快排冲洗槽的内部,进行循环冲洗一次,将蓝宝石晶片上的硫酸进行冲洗掉,进而避免硫酸对下一步清洗带来影响,造成清洗能力下降;
步骤3:将在快排冲洗槽内进行冲洗循环一次后的蓝宝石晶片放入到氨水、双氧水及纯水的混合液中,且氨水、双氧水及纯水按重量份数进行配比的比例为,氨水1份:双氧水1份:纯水8份,并将蓝宝石晶片及氨水、双氧水及纯水的混合溶液置于石英槽的内部,将石英槽加热至70摄氏度,并开启石英槽的超声波功能,使得氨水、双氧水及纯水的混合溶液在超声波的作用下,对蓝宝石晶片进行清洗浸泡15分钟;
步骤4:将在超声波功能下清洗浸泡15分钟后的蓝宝石晶片取出,并置于快排冲洗槽内,并进行冲洗循环4次,冲洗掉蓝宝石晶片的外表面上残留的氨水、双氧水及纯水的混合溶液,并对蓝宝石晶片的外表面进行彻底的冲洗;
步骤5:将在快排冲洗槽内进行循环冲洗4次的蓝宝石晶片取出,并置于旋干机中,使得旋干机带动蓝宝石晶片快速转动,进而旋干掉蓝宝石晶片外表面上多余的水分,并且在旋干机转动时,加入HN2使得蓝宝石晶片可以得到快速干燥;
通过步骤1的预处理,且经过步骤2、步骤3和步骤4的清洗处理以及经过步骤5的干燥处理,进而使得蓝宝石晶片的外表面清洗的更加洁净,且不会对蓝宝石晶片的外表面产生损害。
2.根据权利要求1所述的一种清洗蓝宝石晶片表面的方法,其特征在于:在步骤1中,在石英槽设备作业时,每次进行浸泡时,均需要补充300毫升的双氧水,且在石英槽设备作业时,设备每静置30分钟未用时,均需要补加一次双氧水,且每次补加的双氧水为150毫升,进而保证石英槽内部溶液的洗净能力。
3.根据权利要求1所述的一种清洗蓝宝石晶片表面的方法,其特征在于:在步骤2中使用快排冲洗槽进行循环冲洗时,其在快排冲洗槽内的冲洗步骤为:
步骤2-1:开启快排冲洗槽,使得快排冲洗槽进行下给水和开启N2气泡,开启5秒;
步骤2-2:开启快排冲洗槽,使得快排冲洗槽进行上给水和快排水,并开启10秒;
步骤2-3:开启快排冲洗槽,使得快排冲洗槽进行上给水、下给水和N2气泡,开启时间为35秒;
将步骤2-1、步骤2-2和步骤2-3进行循环一次,进而使得蓝宝石晶片表面上的硫酸进行冲洗,避免硫酸对下一步清洗带来影响,造成清洗能力下降。
4.根据权利要求1所述的一种清洗蓝宝石晶片表面的方法,其特征在于:在步骤4中使用快排冲洗槽进行循环冲洗时的步骤为:
步骤4-1:开启快排冲洗槽,使得快排冲洗槽进行下给水和开启N2气泡,开启5秒;
步骤4-2:开启快排冲洗槽,使得快排冲洗槽进行上给水和快排水,并开启10秒;
步骤4-3:开启快排冲洗槽,使得快排冲洗槽进行上给水、下给水和N2气泡,开启时间为35秒;
将步骤4-1、步骤4-2和步骤4-3进行循环四次,进而冲洗掉蓝宝石晶片的外表面上残留的氨水、双氧水及纯水的混合溶液,并对蓝宝石晶片的外表面进行彻底的冲洗。
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