[发明专利]一种有源矩阵有机发光二极体显示器用阳极蚀刻液

说明书

本发明公开了一种有源矩阵有机发光二极体显示器用阳极蚀刻液，包括磷酸、醋酸、硝酸、表面活性剂、金属抑制剂、保护剂和水，上述蚀刻液的原料按重量百分比计算，磷酸含量为60～70％，醋酸含量为15～30％，硝酸含量为2～5％，表面活性剂含量为0.3～5％，金属抑制剂含量为0.1～5％，保护剂含量为0.1～5％，各组分重量百分比之和为100％，所述蚀刻液的PH值为1～2.5；所述金属抑制剂为钼酸盐、琥珀酸、柠檬酸、琥珀酸盐、聚环氧琥珀酸、苯并三氮唑钠盐、苯并三氮唑、有机胺、羧甲基菊粉、丙烯酰胺、亚甲基丙烯酰胺中的一种或几种的混合物。本发明提供一种腐蚀均匀、不同膜层之间腐蚀速率可控，性能稳定的蚀刻液。

技术领域

本发明涉及蚀刻液技术领域，具体涉及一种有源矩阵有机发光二极体显示器用阳极蚀刻液。

背景技术

液晶显示行业高速发展，产品也趋于大型化，高画质，高功能化方向发展，而现有LED/OLED已然渐渐不能满足行业发展的需求，随之而生的AMOLED(Active-matrix organiclight emitting diode，中文全称是有源矩阵有机发光二极体或主动矩阵有机发光二极体)液晶显示技术以其完美画质、卓越性能和创新性越来越为人所关注。

AMOLED液晶目前最常用的材料就是氧化铟锡(Indium Tin Oxides，ITO)导电膜。由于ITO导电膜具有低电阻率，高可见光透过率、高红外反射、对衬底具有很好的附着性、抗擦伤等诸多优良的物理性能以及良好的化学稳定性等特点，因此被广泛应用于各类触摸屏上。ITO膜是利用例如溅射法等成膜方法制作在玻璃等基板上，形成氧化铟锡层，然后在氧化铟锡层上覆涂光刻胶，接着通过曝光和显影，形成所需图案，再将ITO膜同作为掩膜的光致抗蚀剂一起用蚀刻液进行蚀刻(湿法蚀刻)，然后将剩余的光致抗蚀剂剥离除去，即可在基板上形成透明的电极图案。

发明内容

本发明的目的在于，克服现有技术中存在的缺陷，提供一种高品质、低成本的柔性面板用阳极蚀刻液，该腐蚀液对ITO/Ag/ITO金属层腐蚀均匀、不同膜层之间腐蚀速率可控，性能稳定，蚀刻选择比良好，蚀刻效率温度可控，且腐蚀液配方原料廉价易得。

为实现上述目的，本发明的技术方案是设计一种有源矩阵有机发光二极体显示器用阳极蚀刻液，包括磷酸、醋酸、硝酸、表面活性剂、金属抑制剂、保护剂和水，上述蚀刻液的原料按重量百分比计算，磷酸含量为60～70％，醋酸含量为15～30％，硝酸含量为2～5％，表面活性剂含量为0.3～5％，金属抑制剂含量为0.1～5％，保护剂含量为0.1～5％，各组分重量百分比之和为100％，所述蚀刻液的PH值为1～2.5；

所述金属抑制剂为钼酸盐、琥珀酸、柠檬酸、琥珀酸盐、聚环氧琥珀酸、苯并三氮唑钠盐、苯并三氮唑、有机胺、羧甲基菊粉、丙烯酰胺、亚甲基丙烯酰胺中的一种或几种的混合物。

每升蚀刻液中颗粒大于0.5μm的颗粒不超过25个；杂质阴离子不超过300ppb，杂质阳离子不超过100ppb。

由于蚀刻液在腐蚀金属膜层的时候会受到药液本身张力的影响，张力越大，蚀刻液对金属膜层的浸润性就较差，就无法较好地刻蚀到金属膜层，在加入金属抑制剂复配混合物后，大大降低蚀刻药液的张力，提高了药液对于金属膜层的浸润性，能够较快的腐蚀金属膜层。通过改变金属抑制剂复配混合物的量从而达到控制药液的的张力大小，最终实现对金属膜层刻蚀速率的控制。

作为优选的技术方案，所述表面活性剂为脂肪酸甲酯乙氧基化物、脂肪酸聚氧乙烯酯、脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸铵中的一种或几种的混合物。脂肪酸甲酯乙氧基化物(FMEE)具有低泡沫、高浊点，冷水不宜凝胶，溶解迅速，特别是冬季不出现凝固，使用方便，且具有很好的润湿分散性能。

采用非离子型表面活性剂和金属蚀刻抑制剂复配型添加剂，用于调整蚀刻液的表面张力和调控不同金属膜层的选择性蚀刻比率，增加腐蚀液与不同金属膜层之间的浸润性和对于不同金属膜层的有效腐蚀选择比。