[发明专利]测量装置、曝光装置、光刻系统、测量方法及曝光方法

权利要求书

1.一种测量装置，其在曝光处理之前，取得形成在基板的标记的位置信息，前述基板被保持在曝光装置所具备的基板保持具上进行前述曝光处理，其特征在于，包括：

第1检测系统，检测形成在前述基板的标记；

载台，将前述基板保持在与前述基板保持具不同的保持构件上且能够移动；

位置测量系统，在前述载台设置具有格子部的测量面与对前述测量面照射光束的读头部中的一方，将来自前述读头部的光束照射于前述测量面且接收前述光束从前述测量面返回的返回光束而取得前述载台的位置信息；以及

控制装置，根据前述第1检测系统的检测结果、与使用前述位置测量系统而取得的前述载台的位置信息，依据既定的测量条件求出形成在前述基板上的多个区划区域的各个中的多个标记的位置信息；

前述控制装置，可执行如下的测量条件，亦即：

将进行前述标记的位置信息的取得的对象区划区域，设为前述多个区划区域的全部的测量条件；

将进行前述标记的位置信息的取得的对象区划区域，设为前述多个区划区域的一部分的测量条件；

将前述多个区划区域的至少一部分设为进行前述标记的位置信息的取得的对象区划区域，在前述对象区划区域的各个，进行前述多个标记中的1个标记的位置信息的取得的测量条件；以及

将前述多个区划区域的至少一部分设为进行前述标记的位置信息的取得的对象区划区域，在前述对象区划区域的各个，进行前述多个标记中的2个以上的标记的位置信息的取得的测量条件；

且前述控制装置将前述各测量条件中的任意一个作为前述既定的测量条件而选择；

前述测量装置在前述基板从前述保持构件移载至前述基板保持具之前，对于保持在前述保持构件上的前述基板，依据选择的前述既定的测量条件来取得形成在前述基板的标记的位置信息。

2.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于：

前述控制装置，对于作为包含前述基板的一批而设定的多个基板的各个，依据前述测量条件求出标记的位置信息。

3.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于：

前述控制装置，对于作为包含前述基板的一批而设定的多个基板中的一部分基板，在第1测量条件之下进行标记的位置信息的取得，对于前述多个基板中的、与前述一部分基板不同的其他基板，在第2测量条件之下进行标记的位置信息的取得；

在前述第1测量条件之下，针对在前述一部分基板的各个形成的全部的区划区域检测多个标记，适用于前述其他基板的前述第2测量条件，是根据前述一部分基板的测量结果而决定的。

4.根据权利要求3所述的测量装置，其特征在于：

在前述多个基板的各个形成多个区划区域，

在前述多个区划区域的各个形成标记，

依据前述第1测量条件进行前述标记的位置信息的取得的对象区划区域，与依据前述第2测量条件进行前述标记的位置信息的取得的对象区划区域不同。

5.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于：在前述对象区划区域的各个进行前述位置信息的取得的前述多个标记，被设为可借由对前述位置信息进行统计运算来算出前述对象区划区域各自的形状信息的配置。

6.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，进而包括：

多点焦点位置检测系统，检测前述基板表面的高度；

前述控制装置，根据前述多点焦点位置检测系统的检测结果、与使用前述位置测量系统而取得的前述载台的位置信息，求出前述基板表面的平坦度。

7.根据权利要求6所述的测量装置，其特征在于：

前述控制装置，在前述曝光处理之前输出前述平坦度，用以在由前述曝光装置进行的前述基板的曝光处理中利用。

8.根据权利要求1至7中的任意一项所述的测量装置，其特征在于：

前述控制装置，在前述曝光处理之前输出多个前述标记的位置信息，用以在由前述曝光装置进行的前述基板的曝光处理中利用。