[发明专利]测量装置、光刻系统、曝光装置、测量方法、曝光方法以及元件制造方法

权利要求书

1.一种测量装置，测量形成在基板的多个标记的位置信息，其特征在于，包括：

载台，保持所述基板且能够移动；

位置测量系统，能够取得所述载台的位置信息；

第1检测系统，检测形成在所述基板的标记；以及

控制装置，根据所述第1检测系统的检测结果与利用所述位置测量系统获得的所述载台的位置信息，求出所述多个标记各自的位置信息；

求出所述多个标记各自的位置信息的动作，包含分别求出各自形成于所述基板上的不同层的标记的、在沿着所述基板的表面的第1方向的位置信息、以及在与所述第1方向正交的第2方向的位置信息的动作；

所述控制装置根据所述多个标记的所述位置信息，求出所述基板上的不同层的所述第1方向的重迭误差与所述第2方向的重迭误差，且判断所述第1方向的重迭误差是因所述不同层的曝光的哪一个为主而产生，并判断所述第2方向的重迭误差是因所述不同层的曝光的哪一个为主而产生。

2.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，所述位置测量系统能够测量包含所述载台的所述位置信息的至少3自由度方向的位置信息。

3.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，

所述位置测量系统包括具有格子部的测量面与将光束照射至所述测量面的读头部；

所述格子部与所述读头部的一方设于所述载台，将来自所述读头部的光束照射至所述测量面，并且能够接收该光束的来自所述测量面的返回光束而取得所述载台的位置信息。

4.根据权利要求3所述的测量装置，其特征在于，所述测量装置更包括：

基座构件，在6自由度方向能够移动地支撑所述载台且设置有所述读头部，所述6自由度方向包含在既定平面内相互正交的第1方向、第2方向及与所述既定平面垂直的第3方向；以及

相对位置测量系统，测量所述第1检测系统和所述基座构件的与所述6自由度方向相关的相对位置信息；

所述控制装置根据由所述相对位置测量系统产生的测量信息与由所述位置测量系统产生的测量信息，控制所述载台的移动。

5.根据权利要求4所述的测量装置，其特征在于，所述控制装置在求出所述多个标记的所述位置信息时，将从由所述相对位置测量系统产生的测量信息得到的所述第1检测系统与所述基座构件在所述既定平面内的相对位置信息用作为修正量。

6.根据权利要求4所述的测量装置，其特征在于，所述格子部具有2维格子，该2维格子具有在所述既定平面内相互交叉的第1周期方向及第2周期方向；

来自所述测量面的返回光束，包含来自所述格子部的衍射光束；

所述读头部具有第1读头、第2读头以及至少3个第3读头，所述第1读头对所述测量面照射第1光束并接收来自所述格子部的第1衍射光束，测量所述载台在所述第1周期方向的位置信息，所述第2读头对所述测量面照射第2光束并接收来自所述格子部的第2衍射光束，测量所述载台在所述第2周期方向的位置信息，所述至少3个第3读头对所述测量面照射第3光束并接收来自所述格子部的光，测量所述载台的所述第3方向的位置信息。

7.根据权利要求6所述的测量装置，其特征在于，来自所述第1读头的所述第1光束在所述测量面上的照射点和来自所述第2读头的所述第2光束在所述测量面上的照射点被设定在位于所述第1检测系统的检测区域下方的同一检测点，来自所述至少3个第3读头各自的第3光束在所述测量面上的照射点被设定在所述检测点的周围。

8.根据权利要求7所述的测量装置，其特征在于，所述检测点位于所述第1检测系统的检测中心正下方，所述检测点与所述检测中心在所述既定平面内的位置一致。

9.根据权利要求6所述的测量装置，其特征在于，所述第1周期方向与所述第2周期方向相互正交。

10.根据权利要求9所述的测量装置，其特征在于，所述第1周期方向与所述第2周期方向中的一方与所述第1方向一致，所述第1周期方向与所述第2周期方向中的另一方与所述第2方向一致。