[发明专利]一种基于特征值确认的全二维气相色谱调制峰多层次限制归类方法在审

专利信息
申请号: 202010098165.2 申请日: 2020-02-18
公开(公告)号: CN111272925A 公开(公告)日: 2020-06-12
发明(设计)人: 贺敏;彭干;王淼;洪亮 申请(专利权)人: 湘潭大学
主分类号: G01N30/86 分类号: G01N30/86
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 411105 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 特征值 确认 二维 色谱 调制 多层次 限制 归类 方法
【权利要求书】:

1.一种全二维气相色谱调制峰智能归类的方法,其特征在于:

所述第二维(2D)调制峰来源于全二维气相色谱(GC×GC)-质谱(MS)联用仪器,其中包括对2D保留时间限制、1D剖面峰形限制、基于移动窗口和“二维(2D)切片”调制峰质谱信息的特征值计算等三层次限制。2D调制峰智能归类对快速且准确地锁定三维共流峰区域,便于下一步的解析具有重要的意义。

GC×GC数阵中2D调制峰智能归类方法(ICMP)步骤如下:

(1)数据转换:将GC×GC-MS原始qgd或其它格式文件转换为mat格式,转换的新格式在Matlab软件中运行为2D切片的平铺矩阵;

(2)“2D切片平铺集”的背景扣除与峰检测:采用自适应迭代重加权惩罚最小二乘算法(airPLS)或其它方法进行背景扣除,以Haar函数为母函数的小波变换或其它方法检测峰顶和峰宽;

(3)“2D切片”中2D调制峰保留时间限制:基于实际测试的复杂性,除了以2D峰顶点时间差为第一个限制,也增加了峰起点或峰终点的时间差限制;

(4)“2D切片”的1D剖面峰形限制:通过单模态准则探究二次分类法,计算(3)归类好的调制峰子矩阵的峰顶点,形成峰顶子矩阵,然后通过求导的方式来获取峰顶子矩阵的极值,除了起点,每一个极小值点也可为一个峰/峰的分界点,同时每一个峰组中只能允许存在一个极大值(峰顶);

(5)基于移动窗口和“2D切片”调制峰质谱信息的特征值计算:子窗口因子分析法(SFA)中特征值计算被用来判断两矩阵的质谱拟合程度,在有干扰峰的影响下也能很好地识别出是否含有共有组分,可作为智能归类的第三次限制;

(6)秩图计算:通过FSWMEFA获取秩图,直观地判断该峰组是否有共流峰;

(7)共流峰解析:使用多元校正和多元分辨法解析共流峰。

2.根据权利要求1所述的GC×GC数阵中2D调制峰智能归类的方法,其特征在于,2D保留时间限制、1D剖面峰形限制、基于移动窗口和“2D切片”调制峰质谱信息的特征值计算等三层次限制的结合。

3.根据权利要求1所述的GC×GC数阵中2D调制峰智能归类的方法,适用于复杂体系中的调制峰(簇)(往往具有共流现象)。

4.根据权利要求1所述的三层次限制方案,可与多种背景扣除与峰检测方法组合。

5.根据权利要求1所述的GC×GC数阵中2D调制峰智能归类的方法,可智能归类GC×GC-MS仪器的2D调制峰,也适用于LC×LC-MS仪器。

6.权利要求1所述的2D调制峰智能归类方法所获结果,可用于:中药、石油和生物样品等复杂体系GC×GC-MS测试中三维共流峰区域的快速定位(或二维共流峰的准确识别),便于多种方案的数学分离。

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