[发明专利]一种光学检测装置及其光学检测方法有效
申请号: | 202010095792.0 | 申请日: | 2020-02-17 |
公开(公告)号: | CN111473736B | 公开(公告)日: | 2022-03-01 |
发明(设计)人: | 吴精文 | 申请(专利权)人: | 住华科技股份有限公司 |
主分类号: | G01B11/14 | 分类号: | G01B11/14 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 中国台湾台南*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光学 检测 装置 及其 方法 | ||
一种光学检测装置及其光学检测方法。光学检测装置包括一光源发射器、一光学感测器以及一处理器。光源发射器依序发出两入射光至一薄膜。光学感测器接收入射光照射到薄膜后依序反射的两反射光。处理器依据两反射光计算薄膜与光学感测器之间的一第一距离与一第二距离,并且计算该第一距离与该第二距离的一变动量。当变动量大于或等于一阈值时,处理器判断薄膜的传送状况为正常。
技术领域
本发明是关于一种光学检测装置及其光学检测方法,特别是关于一种用于检测薄膜的光学检测装置及其光学检测方法。
背景技术
在电子与光学领域中,经常需要使用薄膜材料来进行加工。然而,如果在对薄膜进行加工的过程中发生膜面断裂时,则会中断连续制造。如果能提早预防膜面断裂,即增加产能并可减少材料耗损,增加生产的效率以及良率。因此,需要一种光学检测装置及其光学检测方法,进而预测是否要发生膜面断裂。
发明内容
为了解决上述问题,本发明提出一种光学检测装置及其光学检测方法,量测待测薄膜与光学检测装置之间的距离变化,针对拉力不平衡导致发生膜面断裂现象加以预防,进而预测是否要发生膜面断裂,提高生产的效率以及良率。
本发明的一实施例提供了一种光学检测装置,包括一光源发射器、一光学感测器以及一处理器。光源发射器依序发出两入射光至一薄膜。光学感测器接收入射光照射到薄膜后依序反射的两反射光。处理器依据两反射光计算薄膜与光学感测器之间的一第一距离与第二距离,并且计算第一距离与第二距离的一变动量。当变动量大于或等于一阈值时,处理器判断薄膜的传送状况为正常。
当变动量小于一阈值时,处理器判断第一距离与第二距离是否小于一预设距离。当第一距离与第二距离小于预设距离并且持续一预设时间时,处理器判断薄膜的传送状况为异常,并且光学检测装置发出一膜面断裂警示通知。当第一距离与第二距离小于预设距离、并且没有持续预设时间时,处理器判断薄膜的传送状况为正常。
当处理器判断第一距离与第二距离并未小于预设距离时,处理器判断第一距离与第二距离是否大于预设距离。当第一距离与第二距离大于预设距离并且持续预设时间时,处理器判断薄膜的传送状况为异常,并且光学检测装置发出一松脱警示通知。当距离大于预设距离、并且没有持续预设时间时,处理器判断薄膜的传送状况为正常。
在一实施例中,第一滚轮与第二滚轮是以一速度传送薄膜,并且预设时间与速度之间为反比关系。在另一实施例中,阈值为距离的20%至40%。此外,第一滚轮与第二滚轮之间的距离为D1,第一滚轮与第二滚轮的半径为D2,并且D1为D2的4.5倍至7倍。
本发明的另一实施例提供了一种光学检测方法,用于检测一薄膜,包括:依序发出一入射光至薄膜;接收入射光照射到薄膜后依序反射的两反射光;依据两反射光计算薄膜与光学感测器之间的一第一距离与一第二距离;以及计算第一距离与第二距离的一变动量,其中当变动量大于或等于一阈值时,判断薄膜的传送状况为正常。当变动量小于一阈值时,判断第一距离与第二距离是否小于一预设距离;以及当第一距离与第二距离小于预设距离并且持续一预设时间时,判断薄膜的传送状况为异常,并且发出一膜面断裂警示通知。
关于本发明其他附加的特征与优点,此领域的熟悉技术人士,在不脱离本发明的精神和范围内,当可根据本案实施方法中所揭露的光学检测装置及其光学检测方法。
附图说明
根据以下的详细说明并配合所附附图做完整揭露。应注意的是,根据本产业的一般操作,图示并未必按照比例绘制。事实上,可能任意的放大或缩小元件的尺寸,以做清楚的说明。
图1是显示根据本发明一实施例所述的光学检测装置、滚轮与薄膜的示意图;
图2A与图2B是显示根据本发明一实施例所述的光学检测装置的详细内部构造的示意图;
图3是显示根据本发明另一实施例所述的光学检测装置、滚轮与薄膜的示意图;
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