[发明专利]取代的芳香稠合环衍生物及其组合物及用途在审
申请号: | 202010089809.1 | 申请日: | 2020-02-13 |
公开(公告)号: | CN111574521A | 公开(公告)日: | 2020-08-25 |
发明(设计)人: | 王义汉;邢青峰;艾义新 | 申请(专利权)人: | 深圳市塔吉瑞生物医药有限公司 |
主分类号: | C07D487/04 | 分类号: | C07D487/04;C07D471/04;A61P35/00;A61P35/02 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邹宗亮;牟科 |
地址: | 518057 广东省深圳市南山区科技*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 取代 芳香 稠合环 衍生物 及其 组合 用途 | ||
1.式(I)化合物:
其中,
·环A与环B组成芳香稠合环;
·A1选自N原子或C原子,其任选地被R1取代;
·A2选自N原子或C原子,其任选地被R2取代;
其中每个R1和R2各自独立地选自H、D、卤素、-CN、C1-6烷基、C1-6卤代烷基、C3-7环烷基、C1-6烷氧基、C1-6卤代烷氧基或-OC3-7环烷基;其中上述基团任选地被一个或多个D取代,直至完全氘代;
·A3和A4各自独立地选自C原子或N原子;
·A5和A6各自独立地选自N原子或C原子,其任选地被R取代;
·A7和A8各自独立地选自N原子或C原子,其任选地被R’取代;
其中R和R’各自独立地选自H、D、卤素、-CN、C1-6烷基、C1-6卤代烷基、C3-7环烷基、C1-6烷氧基、C1-6卤代烷氧基、-OC3-7环烷基或-L1-Ra;其中上述基团任选地被一个或多个D取代,直至完全氘代;
其中,L1选自键、O或NH;Ra选自苯基或含1-3个N、O或S杂原子的5至6元杂芳基,其中所述基团任选地被一个或多个Rb所取代;
·B1、B2、B3和B4各自独立地选自CR*或N;
其中每个R*各自独立地选自H、D、卤素、-CN、-Rc、-C(O)Rc、-C(O)ORc、-C(O)NRcRd、-NRcRd、-NRcC(O)Rc、-NRcC(O)ORc、-NRcC(O)NRcRd、-ORc、-OC(O)Rc、-OC(O)ORc或-OC(O)NRcRd;
·L2和L3各自独立地选自键、NH、CH2、CHD或CD2;
·环C选自苯基或含1-3个N、O或S杂原子的5至6元杂芳基,其中所述基团任选地被一个或多个Rb’所取代;
其中,每个Rb和Rb’各自独立地选自H、D、-OH、-NH2、卤素、-CN、-Rc、-C(O)Rc、-C(O)ORc、-C(O)NRcRd、-NRcRd、-NRcC(O)Rc、-NRcC(O)ORc、-NRcC(O)NRcRd、-ORc、-OC(O)Rc、-OC(O)ORc或-OC(O)NRcRd,或者,相同原子或相邻原子上的两个Rb基团或两个Rb’基团可以一起形成任选被一个或多个Re取代的C3-7环烷基、3至7元杂环基、C6-10芳基或5至10元杂芳基;
每个Rc和Rd各自独立地选自C1-6烷基、C1-6卤代烷基、C2-6烯基、C2-6炔基、C3-7环烷基、3至7元杂环基、C6-10芳基或5至10元杂芳基,或者Rc和Rd连同它们所连接的N原子一起形成3至7元杂环基或5至10元杂芳基;其中所述基团任选地被一个或多个Re所取代;
每个Re各自独立地选自H、D、-OH、-NH2、卤素、-CN、-Rf、-C(O)Rf、-C(O)ORf、-C(O)NRfRg、-NRfRg、-NRfC(O)Rf、-NRfC(O)ORf、-NRfC(O)NRfRg、-ORf、-OC(O)Rf、-OC(O)ORf或-OC(O)NRfRg,或者,相同原子或相邻原子上的两个Re基团可以一起形成C3-7环烷基、3至7元杂环基、C6-10芳基或5至10元杂芳基;其中Re定义中的每个基团任选地被一个或多个D取代,直至完全氘代;
每个Rf和Rg各自独立地选自C1-6烷基、C1-6卤代烷基、C2-6烯基、C2-6炔基、C3-7环烷基、3至7元杂环基、C6-10芳基或5至10元杂芳基,或者Rf和Rg连同它们所连接的N原子一起形成3至7元杂环基或5至10元杂芳基;其中Rf和Rg定义中的每个基团任选地被一个或多个D取代,直至完全氘代;
或其互变异构体、立体异构体、前药、晶型、药学上可接受的盐、水合物或溶剂合物。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市塔吉瑞生物医药有限公司,未经深圳市塔吉瑞生物医药有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010089809.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:曝光系统以及物品制造方法
- 下一篇:算术处理设备、存储介质和算术处理方法