[发明专利]一种改善frit胶凹陷的方法有效

专利信息
申请号: 202010059463.0 申请日: 2020-01-19
公开(公告)号: CN111261803B 公开(公告)日: 2022-05-24
发明(设计)人: 庄丹丹;孙玉俊 申请(专利权)人: 福建华佳彩有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/52
代理公司: 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙) 35219 代理人: 徐剑兵;张忠波
地址: 351100 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 改善 frit 凹陷 方法
【权利要求书】:

1.一种改善frit胶凹陷的方法,其特征在于,包括如下步骤:

在frit胶中加入磁流变体,形成具有磁流变体的frit胶;

对具有磁流变体的frit胶施加磁场后,使frit胶受磁场作用后frit胶粘度变大,在待网印物上采用具有磁流变体的frit胶进行网印操作;

网印操作结束,并撤掉磁场。

2.根据权利要求1所述的一种改善frit胶凹陷的方法,其特征在于,所述网印操作为:

将具有磁流变体的frit胶涂在网版上,网版包括网纱和乳剂,网版的底部设置有乳剂,网纱用于供具有磁流变体的frit胶自上而下渗入,网版放置在待网印物上方;

用刮刀刮动网版上的具有磁流变体的frit胶,使具有磁流变体的frit胶穿透网纱印到待网印物上。

3.根据权利要求1所述的一种改善frit胶凹陷的方法,其特征在于,在网印操作结束,并撤掉磁场时,还包括如下步骤;

静置具有磁流变体的frit胶,使具有磁流变体的frit胶流平。

4.根据权利要求1所述的一种改善frit胶凹陷的方法,其特征在于,frit胶受磁场作用后,具有磁流变体的frit胶中的磁流变体呈线性排列后具有磁流变体的frit胶粘度变大。

5.根据权利要求1所述的一种改善frit胶凹陷的方法,其特征在于,在网印操作结束,并撤掉磁场后,还包括如下步骤:

在待网印物置于强度逐渐减弱的交变电流产生的磁场中,交变电流产生的磁场用于去除frit胶的磁性。

6.根据权利要求1至5任意一项所述的一种改善frit胶凹陷的方法,其特征在于,对具有磁流变体的frit胶施加磁场的方向为单一方向且垂直待网印物平面。

7.根据权利要求1至5任意一项所述的一种改善frit胶凹陷的方法,其特征在于,所述待网印物为盖板玻璃。

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