[发明专利]以碱金属插层高效制备石墨烯的方法及石墨烯在审

专利信息
申请号: 202010058005.5 申请日: 2020-01-16
公开(公告)号: CN111170314A 公开(公告)日: 2020-05-19
发明(设计)人: 王庆丰;敖善世;高娟 申请(专利权)人: 王庆丰
主分类号: C01B32/19 分类号: C01B32/19
代理公司: 深圳市中科创为专利代理有限公司 44384 代理人: 彭涛;刘曰莹
地址: 518000 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 碱金属 高效 制备 石墨 方法
【说明书】:

发明公开一种以碱金属插层高效制备石墨烯的方法及石墨烯,其中制备方法包括:将石墨粉与碱金属以摩尔比的比例加入反应容器内,同时加入溶剂,在‑40℃~‑20℃的低温浴中反应1h~5h,去除低温浴,升温至0~150℃继续反应12h~75h,同时蒸发掉溶剂,得到碱金属插层石墨烯;再加入稀释剂,以1kW~8kW的功率超声处理0.8h~5.0h,得到石墨烯悬浮液;再将石墨烯悬浮液用稀释剂洗涤并进行离心处理,再用去离子水反复冲洗过滤至洗出液呈中性,再离心收集得到石墨烯滤物;将石墨烯滤物进行干燥处理,得到石墨烯粉末。本发明以碱金属插层制备石墨烯,既能保证石墨烯的结构完整性又可以保证石墨烯的量化生产。

技术领域

本发明涉及石墨烯合成技术领域,尤其涉及一种以碱金属插层高效制备石墨烯的方法及石墨烯。

背景技术

石墨烯是一种二维的以sp2杂化、蜂窝状且具有单层原子厚度的新型材料,目前己发现石墨烯具有优异的导电性、良好的光学性能、优良的面内力学性能、较高的热导率,正逐步应用在能源、半导体等多个领域。

常见制备石墨烯的方法包括机械剥离法、取向附生法、碳化硅外延法、化学气相沉积法即(CVD)、液相剥离法和Hummers氧化还原法等;然而前面五种方法制备的石墨烯都是少量的难以实现工业化;虽说Hummers氧化还原法可一次制备大量的石墨烯,但这样制备的石墨烯缺陷较大,片层结构破坏明显,已经不能完整的保留石墨烯的性能。

因此,现有技术存在不足,需要改进。

发明内容

本发明的目的是克服现有技术的不足,提供一种以碱金属插层高效制备石墨烯的方法及石墨烯。

本发明的技术方案如下:提供一种以碱金属插层高效制备石墨烯的方法,包括以下步骤:

步骤1,将石墨粉与碱金属以摩尔比的比例加入反应容器内,同时加入溶剂,在-40℃~-20℃的低温浴中反应1h~5h,去除低温浴,升温至0~150℃继续反应12h~75h,同时蒸发掉溶剂,得到碱金属插层石墨烯。

步骤2,在步骤1中制得的碱金属插层石墨烯中加入稀释剂,以1kW~8kW的功率超声处理0.8h~5.0h,得到石墨烯悬浮液。

步骤3,将经过超声分散后的石墨烯悬浮液用稀释剂洗涤并进行离心处理,然后再用去离子水反复冲洗过滤直至洗出液呈中性,再离心收集得到石墨烯滤物。

步骤4,将步骤3得到的石墨烯滤物进行干燥处理,得到石墨烯粉末。

进一步地,步骤1中所述石墨粉包括:鳞片石墨、膨化石墨、天然土状石墨,所述石墨粉的粒径范围为10μm~500μm。

进一步地,所述碱金属为金属锂、金属钠、金属钾、金属镁中的任一种。

进一步地,步骤1中的溶剂为液氨、乙二胺、四氢呋喃与苯的混合物的任一种。

进一步地,所述低温浴为干冰浴或丙酮浴。

进一步地,所述稀释剂为盐酸或乙醇或甲醇。

进一步地,步骤2中,超声处理的功率为3kW~5kW,超声处理时间为1.0h~2.0h。

进一步地,步骤4中的所述干燥处理为冷冻干燥处理。

进一步地,使用前将所述溶剂和所述稀释剂均采用分子筛进行干燥。

本发明还提供一种石墨烯,其特征在于,所述石墨烯采用如上所述的制备石墨烯的方法制备得到。

采用上述方案,本发明以碱金属插层制备石墨烯,既能保证石墨烯的结构完整性又可以保证石墨烯的量化生产。

附图说明

图1为本发明金属锂插层氧化还原制备石墨烯路线图;

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