[发明专利]一种镀膜机

说明书

本发明提供了一种镀膜机，包括真空腔体、回转机构、镀膜辊系机构和镀膜机构，在第一镀膜冷却辊位于第一靶位且第二镀膜冷却辊位于第二靶位时，第二收放卷件释放的基材依次缠绕在第二镀膜冷却辊以及第一镀膜冷却辊上，再由第一收放卷件进行收卷；在回转机构带动第一镀膜冷却辊旋转至第二靶位时，第一收放卷件释放的基材依次缠绕在第一镀膜冷却辊以及第二镀膜冷却辊上，再由第二收放卷件进行收卷。本发明提供的镀膜机，基材的正面镀上第一镀膜部件和第二镀膜部件上的靶材，基材的反面也镀上第一镀膜部件和第二镀膜部件上的靶材，在不需要打开真空腔体就能够实现单腔体镀膜机的基材的双面上同时镀上不同的材料且能减少耗时。

技术领域

本发明属于镀膜技术领域，更具体地说，是涉及一种镀膜机。

背景技术

真空卷绕镀膜技术就是在真空室内通过热蒸发或者磁控溅射等方法在卷料基材表面制备一层或者多层具有一定功能的薄膜的技术。真空卷绕镀膜设备主要有以下特点：其一、被镀基材为柔性基材，即具有可卷绕性；其二、镀膜过程具有连续性，即在一个工作周期内镀膜是连续进行的；其三、镀膜过程在高真空环境中进行。卷绕镀膜机在放卷和收卷过程中，基材表面被镀上薄膜，镀膜的结构就是真空卷绕镀膜设备的工作部，它位于基材的收放卷之间，工作部的工作原理可以是电阻蒸发、感应蒸发、电子束蒸发、磁控溅射或者是其它真空镀膜方法中的任意一种。磁控溅射的工作过程是电子在电场的作用下加速飞向基材薄膜的过程中与溅射气体氩气碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基材薄膜，在此过程中不断地与氩原子碰撞，产生更多的氩原子和电子；氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶材原子(或分子)沉积在基材薄膜表面成膜。

现有技术的单腔体镀膜机是在基材的双面同时镀上多种不同材料，需要在一次镀膜完成后，重新调换靶材，而在调换靶材需要将真空腔体打开进行的，这样又需要重新营造真空等工艺条件，其过程耗费时间长，从而导致产品品质下降。有鉴于此，如何设计一种能在基材双面上镀上不同的材料且能减少耗时的单腔体镀膜机成为有待解决的技术问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种镀膜机，以解决现有技术中存在的如何设计一种能在基材双面上镀上不同的材料且能减少耗时的单腔体镀膜机成为有待解决的技术问题。

为实现上述目的，本发明采用的技术方案是：提供一种镀膜机，包括真空腔体、回转机构、镀膜辊系机构和镀膜机构，所述回转机构和所述镀膜机构均设置在所述真空腔体内，所述镀膜辊系机构包括第一镀膜冷却辊、第一收放卷件、第二镀膜冷却辊和第二收放卷件，所述镀膜机构包括第一镀膜部件和第二镀膜部件；

在所述第一镀膜冷却辊位于第一靶位且所述第二镀膜冷却辊位于第二靶位时，所述第二收放卷件释放的基材依次缠绕在所述第二镀膜冷却辊以及所述第一镀膜冷却辊上，再由所述第一收放卷件进行收卷，所述第一镀膜部件用于对经过所述第二镀膜冷却辊的基材的正面进行镀膜，所述第二镀膜部件用于对经过所述第一镀膜冷却辊的基材的反面进行镀膜；

在所述回转机构带动所述第一镀膜冷却辊旋转至所述第二靶位且所述第二镀膜冷却辊旋转至所述第一靶位时，所述第一收放卷件释放的基材依次缠绕在所述第一镀膜冷却辊以及所述第二镀膜冷却辊上，再由所述第二收放卷件进行收卷，所述第二镀膜部件用于对经过所述第二镀膜冷却辊的基材的正面进行镀膜，所述第一镀膜部件用于对经过所述第一镀膜冷却辊的基材的反面进行镀膜。

进一步地，所述镀膜机还包括恒压装置，所述恒压装置包括连接板、齿条、齿轮和旋转气缸；

所述连接板与所述第一收放卷件连接，且所述连接板的一端与所述齿条固定连接，所述齿条与所述齿轮啮合，且所述齿条环绕设置在位置固定的所述旋转气缸上；

所述旋转气缸转动输出恒定的扭矩带动所述齿轮转动，当所述第一收放卷件或所述第二收放卷件收卷时，所述旋转气缸转动的方向与所述第一收放卷件或所述第二收放卷件的转动方向相同，所述齿轮转动带动所述齿条往远离所述第一镀膜冷却辊或所述第二镀膜冷却辊的方向平移运动；