[发明专利]用于制造气化二氧化硅颗粒的系统在审
申请号: | 202010048186.3 | 申请日: | 2020-01-16 |
公开(公告)号: | CN112390523A | 公开(公告)日: | 2021-02-23 |
发明(设计)人: | 桑迪普·盖克瓦德;兰吉特·巴拉克里希南;巴德里·戈马塔姆 | 申请(专利权)人: | 斯特里特技术有限公司 |
主分类号: | C03B37/018 | 分类号: | C03B37/018 |
代理公司: | 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260 | 代理人: | 顾一明 |
地址: | 印度马哈拉施特拉邦奥兰加巴德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制造 气化 二氧化硅 颗粒 系统 | ||
1.一种产生用于制造光学器件的气相二氧化硅颗粒的方法纤维预制体,其方法(100)包括:
与一种或多种燃烧气体一起接收前驱体材料,其中所述发生器(102)中接收前驱体材料以及所述补氧;
在发生器(102)中接收第一气体;
在发生器(102)中接收第二气体;
在发生器(102)中接收载气;和
提高发生器(102)内的温度以使化学反应成为可能在前驱体材料、第一气体和第二气体之间,其中所述化学物质前驱体材料、第一气体和第二气体之间的反应生成每一预定尺寸的气相二氧化硅颗粒。
2.如权利要求1所述的方法(200),其中前驱体材料至少为一四氯化硅的(SiCl4)或八甲基环四硅氧烷(OMCTS)。
3.如权利要求1所述的方法(200),其中第一个气体是氧。
4.如权利要求1所述的方法(200),其中第二种气体是甲烷(CH4)前驱体为八甲基环四硅氧烷(OMCTS)时。
5.如权利要求1所述的方法(200),其中构成了燃烧气体氧气。
6.如权利要求1所述的方法(200),其中载气为1或氮气和空气中。
7.如权利要求1中所述的方法(200),其中含有气相二氧化硅颗粒基本上相同的大小范围。
8.如权利要求1中所述的方法(200),进一步包括控制第一种气体,第二种气体和载气。
9.如权利要求1所述的方法(200),进一步包括控制前驱物质和燃烧气体。
10.如权利要求1中所述的系统(100),进一步包括携带气相二氧化硅所述载体气体中的颗粒,其中所述气相二氧化硅颗粒被带到所述或更多的媒体(116)。
11.一种系统(100),用于产生用于制造气相二氧化硅颗粒光纤预制件,系统(100)包括:
一种发电机(102),其中所述发电机(102)具有多个燃烧器(112)和一燃烧器或多个出口(116),其中多个燃烧器(112)位于第一上发电机(102)的表面(114);以及
连接到所述生成器(102)的多个入口,其中所述多个入口包括:
第一入口(104),其中第一入口(104)为前驱体的流动提供通道中。
第二进口(106)为的流动提供通道首先向发电机供气(102);
第三进口(108),其中所述第三进口(108)为第二流体提供通道
向发电机供气(102);
第四进口(110),其中第四进口(110)为载体的流动提供通道
给发电机的气体(102),
其中,多个燃烧器(112)用于提高内部温度用于使前驱体材料之间发生化学反应的发生器(102)第一气体和第二气体,其中多个燃烧器(112)置于中圆的方式,其中化学反应的前驱体之间的物质,首先气体和第二气体促进气相二氧化硅颗粒的生成,其中,系统(100)根据所需尺寸生成气相二氧化硅颗粒。
12.如权利要求11所述的系统(100),其中发电机(102)具有涂层所述发电机(102)内壁上的海斯特洛伊材料,其中的涂层为哈斯特洛伊材料用于避免气相二氧化硅颗粒的污染。
13.如权利要求11所述的系统(100),其中接收前体材料通过蒸发器柜(120),其中前驱体材料至少是其中之一四氯化硅(SiCl4)或八甲基环四硅氧烷(OMCTS),其中汽化器箱(120)连接到发电机(102)的第一个入口(104)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于斯特里特技术有限公司,未经斯特里特技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010048186.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:烧结光纤预制棒的方法
- 下一篇:气相二氧化硅颗粒分离脱氢的系统和方法