[发明专利]先进制程控制系统

说明书

本发明提供一种先进制程控制系统，包括第一制程机台、第二制程机台及测量机台。第一制程机台用以在多个晶片上分别以多个第一光罩的其中之一进行处理，并且提供一第一制程时序性数据。第二制程机台用以分别对经过第一制程机台处理的晶片以多个第二光罩的其中之一进行处理，以提供多个工件。第二制程机台依据第一制程时序性数据提供测量触发信号。测量机台用以反应于测量触发信号决定是否执行各个工件的测量动作，并且对应地提供测量结果。

技术领域

本发明涉及一种控制系统，尤其涉及一种先进制程控制系统。

背景技术

先进制程控制(Advanced Process Control，APC)系统为新一代的制程控制系统，其定义层与层的关系来改善良率、降低生产成本。先进制程控制是基于传统的统计制程控制(Statistical Process Control，SPC)加入制程设备所提供的机台参数进行更大规模的监测，接着由制程分析模块(Analysis module)预测制程结果，来达到改善制程过程的效果。

发明内容

本发明提供一种先进制程控制，可改善工件的测量率。

本发明的先进制程控制系统，包括第一制程机台、第二制程机台及测量机台。第一制程机台用以在多个晶片上分别以多个第一光罩的其中之一进行处理，并且提供一第一制程时序性数据。第二制程机台用以分别对经过第一制程机台处理的晶片以多个第二光罩的其中之一进行处理，以提供多个工件。第二制程机台依据第一制程时序性数据提供测量触发信号。测量机台用以反应于测量触发信号决定是否执行各个工件的测量动作，并且对应地提供测量结果。

基于上述，本发明实施例的先进制程控制系统，其第二制程机台接收来自第一制程机台的第一制程时序性数据，以依据第一制程时序性数据提供测量触发信号，来决定是否执行各个工件的测量动作。藉此，可改善工件的测量率。

为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合附图作详细说明如下。

附图说明

图1为根据本发明一实施例的先进制程控制系统的系统示意图；

图2为根据本发明一实施例的时间分群(time grouping)的分类示意图；

图3为根据本发明一实施例的时间分群(time grouping)的时序示意图；

图4为根据本发明另一实施例的先进制程控制系统的系统示意图。

附图标号说明：

10、20：晶片

100、200：先进制程控制系统

110、210：第一制程机台

120、220：第二制程机台

130、240：测量机台

230：第三制程机台

A1-A3、C1-C3：第一光罩

B1-B3、D1-D3：第二光罩

Dpt1：第一制程时序性数据

Dpt2：第二制程时序性数据

E1-E3：第三光罩

I～IX：类别

MES：测量结果

Tme：测量触发信号

wk1、wk2：工件

具体实施方式