[发明专利]先进制程控制系统

权利要求书

1.一种先进制程控制系统，包括：

第一制程机台，用以在多个晶片上分别以多个第一光罩的其中之一进行处理，并且提供第一制程时序性数据；

第二制程机台，用以分别对经过所述第一制程机台处理的所述多个晶片以多个第二光罩的其中之一进行处理，以提供多个工件，其中所述第二制程机台依据所述第一制程时序性数据提供测量触发信号；以及

测量机台，用以反应于所述测量触发信号决定是否执行各所述多个工件的测量动作，并且对应地提供测量结果，

其中所述第一制程时序性数据指示各所述多个第一光罩的时间断点。

2.根据权利要求1所述的先进制程控制系统，其中所述测量触发信号致能于所述多个工件中以相同的第一光罩及相同的第二光罩处理的多个第一工件的数量达到测量临界值且所述多个第一工件中所选择的至少一第一工件即将提供时。

3.根据权利要求2所述的先进制程控制系统，其中所选择的至少一第一工件的数量正比于所述多个第一工件的数量与所述测量临界值的比值。

4.根据权利要求1所述的先进制程控制系统，其中所述第一制程机台通过所述多个第一光罩分别在所述多个晶片上形成对应的第一光致抗蚀剂图案。

5.根据权利要求1所述的先进制程控制系统，其中所述第二制程机台通过所述多个第二光罩分别在所述多个晶片上形成对应的第二光致抗蚀剂图案。

6.根据权利要求1所述的先进制程控制系统，其中所述多个第一光罩及所述多个第二光罩分别为一倍缩光罩。

7.根据权利要求1所述的先进制程控制系统，还包括：

第三制程机台，用以在所述第二制程机台之前，分别对经过所述第一制程机台处理的所述多个晶片以多个第三光罩的其中之一进行处理，并且提供第二制程时序性数据，

其中所述第二制程机台依据所述第一制程时序性数据及所述第二制程时序性数据提供所述测量触发信号。

8.根据权利要求7所述的先进制程控制系统，其中所述测量触发信号致能于所述多个工件中以相同的第一光罩、相同的第三光罩及相同的第二光罩处理的多个第二工件的数量达到测量临界值且所述多个第二工件中所选择的至少一第二工件即将提供时。

9.根据权利要求8所述的先进制程控制系统，其中所选择的至少一第二工件的数量正比于所述多个第二工件的数量与所述测量临界值的比值。

10.根据权利要求7所述的先进制程控制系统，其中所述第二制程时序性数据指示各所述多个第三光罩的时间断点。

11.根据权利要求7所述的先进制程控制系统，其中所述第二制程机台通过所述多个第三光罩分别在所述多个晶片上形成对应的第三光致抗蚀剂图案。

12.根据权利要求7所述的先进制程控制系统，其中所述多个第三光罩彼此不同。

13.根据权利要求1所述的先进制程控制系统，其中所述多个第一光罩彼此不同。

14.根据权利要求1所述的先进制程控制系统，其中所述多个第二光罩彼此不同。