[发明专利]用于制造光学玻璃元件的成型模具和光学玻璃元件在审
申请号: | 202010037429.3 | 申请日: | 2020-01-14 |
公开(公告)号: | CN111235569A | 公开(公告)日: | 2020-06-05 |
发明(设计)人: | 刘浩;张树参;蔡保贤 | 申请(专利权)人: | 瑞声通讯科技(常州)有限公司 |
主分类号: | C23C28/00 | 分类号: | C23C28/00;C03B11/08 |
代理公司: | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人: | 齐则琳 |
地址: | 213000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制造 光学玻璃 元件 成型 模具 | ||
本发明涉及玻璃模造技术领域,提供了一种用于制造光学玻璃元件的成型模具和光学玻璃元件。所述模具包括基板和位于所述基板表面的镀层,所述镀层包括自所述基板表面依次层叠的过渡层和功能层;所述过渡层为包括碳化物或氮化物的陶瓷过渡层,所述功能层为包括Mo、Re、Ir和Rh组成或者包括Mo、Re、Ir和Ru组成的贵金属合金功能层。同时,本发明还提供一种光学玻璃元件。本发明通过模具的过渡层和功能层的模具表面镀层,在高折射率光学玻璃元件模造过程中提升了抗粘膜性能,过渡层的引入显著增加镀层结合力,提高了模具使用寿命。
技术领域
本发明涉及玻璃模造技术领域,尤其涉及一种用于制造光学玻璃元件的成型和光学玻璃元件。
背景技术
目前高折射率光学玻璃元件(折射率nd大于1.8的铅(Plumbum,Pb)系、铋(Bismuth,Bi)系等)模造过程中容易发生粘膜、镀层脱落等现象,造成模具使用寿命较短。现有专利大多针对低折射率玻璃模造开发镀层,且主要以类金刚石薄膜或铂(Platinum,Pt)Pt-Ir,Re-Ir等二元组分为主。缺少针对高折射率光学玻璃元件模造开发的镀层。
针对低折射率光学玻璃元件模造开发的镀层应用于高折射率光学玻璃元件(折射率nd大于1.8的Pb系、Bi系等)模造过程中极易发生粘膜失效,不适用于高折射光学玻璃元件模造。而现有技术中针对高折射光学玻璃元件模造开发的四元镀层为单一的功能层而无过渡层,由于基底材料与镀层材料的界面特性差异较大,在反复模造过程中易脱落失效,寿命较短;而且镀层材料中含有Pt,容易与Pb和Bi发生反应造成粘膜失效。
发明内容
本发明提供一种用于制造光学玻璃元件的成型模具和光学玻璃元件,所述模具包括基板和位于所述基板表面的镀层,其中,所述镀层在高折射率光学玻璃元件(折射率nd大于1.8的Pb系、Bi系等)模造过程中抗粘膜性能优异,过渡层的引入显著增加镀层结合力,提高了模具使用寿命。
本发明提供一种用于制造光学玻璃元件的成型模具,所述模具包括基板和位于所述基板表面的镀层,所述镀层包括自所述基板表面依次层叠的过渡层和功能层;所述过渡层为包括碳化物或氮化物的陶瓷过渡层,所述功能层为包括钼(Molybdenum,Mo)、铼(Rhenium,Re)、铱(Iridium,Ir)和铑(Rhodium,Rh)组成或者包括Mo、Re、Ir和钌(Ruthenium,Ru)组成的贵金属合金功能层。
优选地,所述过渡层为包括WC或CrN的陶瓷过渡层。
优选地,所述过渡层厚度为30nm-200nm。
优选地,所述过渡层为包括碳化钨的陶瓷过渡层且厚度为70nm-100nm。
优选地,所述过渡层为包括氮化铬的陶瓷过渡层且厚度为100nm-200nm。
优选地,所述功能层包括10-50at%的Mo、5-50at%的Re、10-50at%的Ir以及10-50at%的Ru或Rh。
优选地,所述功能层厚度为200nm-1000nm。
此外,本发明还提供一种光学玻璃元件,其采用上述的模具模塑。
与现有技术相比,通过模具的过渡层和功能层的模具表面镀层,在高折射率光学玻璃元件模造过程中提升了抗粘膜性能,过渡层的引入显著增加镀层结合力,提高了模具使用寿命。
附图说明
图1为本发明实施例一提供的模具表面镀层的结构示意图。
具体实施方式
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