[发明专利]一种基于延时相关的二维综合孔径辐射计成像方法及系统

权利要求书

1.一种基于延时相关的二维综合孔径辐射计成像方法，其特征在于，所述基于延时相关的二维综合孔径辐射计成像方法包括以下步骤：

步骤一，确定使用的天线阵列，并对两点点源、背景辐射以及校正源进行数据采集；

步骤二，根据天线阵列的排布按编号设置天线阵各天线的位置，并求出相应的基线差；

步骤三，根据天线位置和基础延时时间对所采集的数据进行延时相加处理；

步骤四，根据基线差对延时相加后的数据进行自相关处理再求可见度；

步骤五，对可见度进行反演得到亮温然后成像，最终得到点源的亮温图像。

2.如权利要求1所述基于延时相关的二维综合孔径辐射计成像方法，其特征在于，步骤三中，对所采集的数据进行延时相加处理之前，需对采集的数据需要做预处理，对点源和背景辐射用校正源进行校正，然后分别进行延时相加处理，得到校正过后的点源以及背景辐射的延时相加数据。

3.如权利要求1所述基于延时相关的二维综合孔径辐射计成像方法，其特征在于，步骤三中，所述延时相加处理的计算过程为：

Y_i(t)、Y_k(t-τ)分别对应U_i(t)、U_k(t-τ)经过通道后的输出信号，则两个信号之和为：

Y_Σ(t)＝[U_i(t)+U_k(t-τ)]*h(t)。

4.如权利要求1所述基于延时相关的二维综合孔径辐射计成像方法，其特征在于，步骤四进一步包括：

(1)分别将校正过的点源和背景辐射的延时相加数据进行自相关处理，对于一半的基线差，对应求出不同延时时间τ，再对延时相加的数据做循环位移，位移的量为相对应的延时时间τ，得到y_Σ(n-τ)；

(2)把y_Σ(n)和y_Σ(n-τ)按着一半的基线差对应做自相关运算，找出相应基线差的个数，将求得的与基线差对应的自相关结果分别除以对应基线差的个数就能求得对应的可见度的值；

(3)再对可见度的值求共轭复数，扩展至完整的基线差，得到完整的基线差对应的可见度，根据二维综合孔径辐射计的UV平面，将得到的可见度的值赋值给相应的采样点，得到最终的天线阵列的整个UV平面的可见度，得到校正过后的点源以及背景辐射的可见度的值。