[发明专利]研磨清洁的改良装置

说明书

本发明提供一种研磨清洁的改良装置，其系包括有一载台及研磨组件，载台系具有一平面用于承载一产品，研磨组件系设置于产品之上方，并具有一转轴，转轴之一端系设置有一无尘布，当转轴旋转时，系通过无尘布对该产品进行研磨清洁，本发明所揭露之载台系同时设计有一正压区与一负压区，其中，正压区系对应设置于产品之外轮廓，负压区系对应设置于载台之中心区域，以真空吸附产品。本发明系藉由在产品之外轮廓附近形成有一气墙，并且通过所形成之气墙，达到阻绝清洁过程中无尘布内溶剂的渗入，并避免该溶剂污染产品，有效提升产品的清洁良率。

技术领域

本发明系有关于一种研磨清洁装置，特别是一种设计有正负压一体之承载平台结构的研磨清洁改良装置。

背景技术

一般而言，现有技术在研磨清洁过程中，产品依靠载台真空吸附而进行清洁时，含溶剂的无尘布在产品与研磨对象的挤压下，常会导致溶剂的渗出，并且在载台真空吸附的情况下，使得溶剂会沿着产品的非清洁面，而吸附到载台中的真空腔(vacuum cavity)，在产品取片载台转正压时，溶剂从真空腔吹到产品的非清洁面，进而造成对产品的污染，而大大地影响到产品的可靠度(reliability)、品质(quality)甚至功能(function)。

举例来说，一现有技术有揭露一种玻璃基板支撑平台和玻璃基板宏观检查装置，其中，玻璃基板支撑平台包括框架，并排设置在所述框架上的多根横梁、以及连接在所述横梁上的多个吸盘。另有一现有技术揭露一种无接触输运与定位平台装置及控制方法，该装置包括运输平台、位于运输平台下方的固定平台、以及位于固定平台下方的基座。其中，所述的固定平台通过固定平台支撑与基座连接，并且在运输平台上设有若干个凹槽。值得注意的是，上述目前已知的这些现有技术，皆系仅仅教示出习见常用的真空吸盘，其系仅是以常见的吸嘴来替代真空孔，藉此达到减少产品接触面积的目的。甚或，现有技术是利用非接触式的运输平台，依靠正压支撑产品移载。然而，以实际的应用层面看来，这些现有的技术方案皆对提升实际产品的可靠度、品质、或功能等良率方面并无有效且显著的贡献。

是以，有鉴于此，本发明人系有感于上述缺失之可改善，且依据多年来从事此方面之相关经验，悉心观察且研究之，并配合学理之运用，而提出一种设计新颖且有效改善上述缺失之本发明，其系揭露一种具有正负压一体之承载平台结构的研磨清洁改良装置，其具体之架构及实施方式将详述于下。

发明内容

为解决习知技术存在的问题，本发明之一目的系在于提供一种研磨清洁的改良装置，其系针对现行的研磨清洁装置设计作一改良，相较于习知结构，此种新颖的研磨清洁改良装置系有助于提供较佳的产品清洁质量并有效提升其产品良率。

本发明之又一目的系在于提供一种研磨清洁的改良装置，其系藉由在承载产品的平台上同时形成一正压区与一负压区，以在邻近产品之外轮廓附近形成有一气墙，并藉由该气墙阻绝清洁过程中无尘布内的溶剂之渗入，由此避免该溶剂污染产品，达到有效提升产品的清洁良率之目的。

本发明之再一目的系在于提供一种研磨清洁的改良装置，利用此种研磨清洁的改良装置，仅需通过此正负压一体的载台设计，一方面可利用其中心区域的负压区吸附产品，同时开启正压，以在产品的外轮廓附近形成气墙，目前已知本发明可广泛应用于大部分的研磨清洁相关产业，具有极高的产业应用性。

鉴于以上，本发明系揭露一种研磨清洁的改良装置，适于清洁一产品，并提升该产品的清洁良率。此种研磨清洁的改良装置包括有：一载台，系具有一平面用于承载该产品；以及一研磨组件，其系设置于产品之上方，以透过所述的研磨组件对该产品进行清洁，其中，载台系同时设计有一正压区与一负压区，所述的正压区系对应设置于该产品之外轮廓，负压区系对应设置于该载台之中心区域。

详细而言，本发明所揭露之研磨组件系具有一转轴，该转轴之一端系设置有一无尘布，因此，当转轴旋转时，研磨组件便可通过所述的无尘布接触产品，以对产品进行研磨清洁。其中，无尘布中系溶有清洁该产品用的溶剂。