[发明专利]研磨清洁的改良装置

权利要求书

1.一种研磨清洁的改良装置，适于清洁一产品，并提升该产品的清洁良率，其特征在于，该改良装置系包括：

一载台，系具有一平面用于承载该产品；以及

一研磨组件，其系设置于该产品之上方，以透过该研磨组件对该产品进行清洁，其中，该载台系具有一正压区与一负压区，该正压区系对应设置于该产品之外轮廓，该负压区系对应设置于该载台之中心区域，以在该产品之该外轮廓附近形成有一气墙，并藉由该气墙阻绝清洁过程中一溶剂渗入并污染该产品。

2.如权利要求1所述之研磨清洁的改良装置，其中，该正压区系包括复数个正压孔，以通过该些正压孔开启正压。

3.如权利要求2所述之研磨清洁的改良装置，其中，该正压区系邻近成形于该产品之侧边，且落在该外轮廓之内。

4.如权利要求2所述之研磨清洁的改良装置，其中，该正压区的范围系为一环型槽。

5.如权利要求1所述之研磨清洁的改良装置，其中，该负压区系包括复数个真空孔，以通过该些真空孔开启负压，并吸附该产品。

6.如权利要求1所述之研磨清洁的改良装置，其中，该正压区系连接一第一气压源，该第一气压源具有至少一电磁阀或调压阀，以利用该电磁阀或调压阀控制正压的开关与大小。

7.如权利要求6所述之研磨清洁的改良装置，其中，该第一气压源与该正压区之间系具有至少一进气软管，以透过该进气软管提供正压。

8.如权利要求1所述之研磨清洁的改良装置，其中，该负压区系连接一第二气压源，该第二气压源具有至少一电磁阀或调压阀，以利用该电磁阀或调压阀控制负压的开关与大小。

9.如权利要求8所述之研磨清洁的改良装置，其中，该第二气压源与该负压区之间系具有至少一出气软管，以透过该出气软管提供负压。

10.如权利要求1所述之研磨清洁的改良装置，其中，该研磨组件系具有一转轴，该转轴之一端系设置有一无尘布，当该转轴旋转时，系通过该无尘布接触该产品，以对该产品进行研磨清洁。

11.如权利要求10所述之研磨清洁的改良装置，其中，该无尘布中系溶有清洁该产品用的该溶剂。