[发明专利]激光装置、激光加工系统和电子器件的制造方法

说明书

本公开的一个观点的激光装置具有：多个半导体激光器；多个光开关，它们被配置在多个半导体激光器各自的光路上；波长转换系统，其对从多个光开关输出的脉冲光进行波长转换，而生成波长转换光；ArF准分子激光放大器，其对波长转换光进行放大；以及控制器，其对多个半导体激光器和多个光开关的动作进行控制，多个半导体激光器分别输出使波长转换光的波长成为基于ArF准分子放大器的放大波长、且与氧对光的吸收线不同的波长的激光。

技术领域

本公开涉及激光装置、激光加工系统和电子器件的制造方法。

背景技术

近年来，在半导体曝光装置中，随着半导体集成电路的微细化和高集成化，要求分辨率的提高。因此，从曝光用光源放出的光的短波长化得以发展。例如，作为曝光用的气体激光装置，使用输出波长大约为248nm的激光的KrF准分子激光装置、以及输出波长大约为193nm的激光的ArF准分子激光装置。

KrF准分子激光装置和ArF准分子激光装置的自然振荡光的谱线宽度较宽，为350～400pm。因此，在利用使KrF和ArF激光这种紫外线透过的材料构成投影透镜时，有时产生色差。其结果，分辨率可能降低。因此，需要将从气体激光装置输出的激光的谱线宽度窄带化到能够无视色差的程度。因此，在气体激光装置的激光谐振器内，有时具有包含窄带化元件(标准具、光栅等)的窄带化模块(Line Narrow Module：LNM)，以使谱线宽度窄带化。下面，将谱线宽度被窄带化的气体激光装置称为窄带化气体激光装置。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：美国专利申请公开第2010/0220756号说明书

专利文献2：日本特开2003-163393号公报

专利文献3：国际公开第2018/100638号

发明内容

本公开的1个观点的激光装置具有：多个半导体激光器；多个光开关，它们被配置在多个半导体激光器各自的光路上；波长转换系统，其对从多个光开关输出的脉冲光进行波长转换，而生成波长转换光；ArF准分子激光放大器，其对从波长转换系统输出的波长转换光进行放大；以及控制器，其对多个半导体激光器和多个光开关的动作进行控制，其中，多个半导体激光器分别构成为，输出使从波长转换系统输出的波长转换光的波长为ArF准分子激光放大器的放大波长的激光，从多个半导体激光器分别输出的激光的波长彼此不同，多个半导体激光器分别输出使波长转换光的波长成为与氧对光的吸收线不同的波长的激光。

本公开的另1个观点的电子器件的制造方法包含以下步骤：使用激光装置生成准分子激光，将准分子激光输出到加工装置，在加工装置中对被照射物照射准分子激光，以制造电子器件，激光装置具有：多个半导体激光器；多个光开关，它们被配置在多个半导体激光器各自的光路上；波长转换系统，其对从多个光开关输出的脉冲光进行波长转换，而生成波长转换光；ArF准分子激光放大器，其对从波长转换系统输出的波长转换光进行放大；以及控制器，其对多个半导体激光器和多个光开关的动作进行控制，多个半导体激光器分别构成为，输出使从波长转换系统输出的波长转换光的波长为ArF准分子激光放大器的放大波长的激光，从多个半导体激光器分别输出的激光的波长彼此不同，多个半导体激光器分别输出使通过波长转换而生成的波长转换光的波长成为与氧对光的吸收线不同的波长的激光。

附图说明

下面，参照附图将本公开的若干个实施方式作为简单例子进行说明。

图1概略地示出比较例的激光加工系统的结构。

图2是示出ArF准分子激光的自然振荡(Free Running)的谱波形的曲线图。

图3概略地示出实施方式1的激光装置的结构。

图4是示出从波长转换系统输出的多线的脉冲激光的谱的例子的曲线图。