[发明专利]光调制器

说明书

本发明为了提供通过降低由调制电极产生的基板的应力，能够防止对基板的损伤并且防止调制器的特性劣化的光调制器，光调制器(1)的特征在于，具备：基板(5)，具有电光效应；光波导(10)，形成于基板(5)；及调制电极(信号电极(S)及接地电极(G))，设置在基板(5)上，对在光波导(10)中传播的光波进行调制，在调制电极的底面的一部分和与调制电极的底面的一部分相对的基板(5)之间，配置有降低由调制电极产生的基板(5)的应力的树脂(8)。

技术领域

本发明涉及具备具有电光效应的基板、形成于基板的光波导、用于对在光波导中传播的光波进行调制的调制电极的光调制器。

背景技术

近年来，在光通信领域、光测量领域中，使用在铌酸锂(LiNbO₃：以下记作LN)等具有电光效应的基板上形成光波导并且形成有对在光波导内传播的光波进行调制的金属制的调制电极的光调制器。

在下述的专利文献1中，公开了在接地电极的底面的一部分与基板的相当部分之间设置有间隙的光调制器。另外，在下述的专利文献2中，公开了接地电极具备第一电极部和配置于第一电极部的内部的第二电极部的光调制器。

另外，为了实现光调制频率的宽带化，实现作为调制信号的微波与光波的速度匹配是重要的。因此，尝试通过进行使基板的厚度减薄的基板的薄板化来实现微波与光波的速度匹配并且实现驱动电源的降低。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平6-235891号公报

专利文献2：日本特开2010-181454号公报

发明内容

发明所要解决的课题

由于例如基板以LN为材料，调制电极为金属制，所以基板与调制电极的线膨胀率不同。因此，由于伴随温度变化的线膨胀率差，在调制电极接触的附近，在基板产生内部应力。另外，在基板产生来自配置在基板上的调制电极的压缩应力，特别是在厚度薄的基板上，不能忽视该压缩应力。当在基板产生这样的内部应力或压缩应力等的应力时，存在基板受到损伤，在基板上产生裂纹等的问题。

另外，基板由LN等具有电光效应的材料制成，通过施加电而使折射率变化，由此进行光调制。但是，当在基板产生应力时，则存在基板的折射率由于光弹性效应而发生变化，光波的传播速度发生变化的问题。其结果是，例如在具有马赫-曾德尔结构的光调制器中，存在马赫-曾德尔结构中的合波时产生相位差，发生偏置电压的变动等的特性劣化的问题。

作为用于解决这样的问题的方法之一，例如考虑形成缓冲层而进行应力缓和。但是，以往的通过溅射成膜形成的缓冲层的膜厚薄，特别是在基板的厚度薄的情况下，存在不能充分地缓和在基板产生的应力的问题。另外，缓冲层一般使用SiO₂等刚性高的材料(SiO₂的杨氏模量：72～74GPa)。在这样由刚性高的材料构成的缓冲层中，出现调制电极对基板的应力的影响较大地显现，特别是在基板的厚度薄的情况下，存在不能充分地缓和在基板产生的应力的问题。

此外，专利文献1、专利文献2中公开的光调制器虽然能够得到抑制啁啾发生、防止调制效率的下降、抑制驱动电压等的作用，但降低调制电极产生的基板的应力的作用较少。因此，专利文献1、专利文献2中公开的光调制器不能解决本发明探讨的上述的课题。

本发明为了解决上述的课题，目的在于提供一种光调制器，通过降低由调制电极产生的基板的应力，能够防止对基板的损伤并且防止调制器的特性劣化。

用于解决课题的技术方案

为了解决上述课题，本发明涉及的光调制器具有以下的技术特征。