[发明专利]成膜掩模的制造方法

说明书

一种成膜掩模的制造方法，该成膜掩模具有在以拉伸在框架上的状态固定的掩模基材的有源区域形成部排列成矩阵状的多个开口部，包括：工序A，准备初始状态的掩模基材，初始状态的掩模基材以规定的条件被拉伸的状态下固定于框架，使得能够规定xy面；工序B，准备所确定的多个开口部的每一个在xy面中的位置的目标坐标数据；工序C：对多个开口部的每一个，预测由于形成开口部而产生的从目标坐标数据开始的位移量，生成减去位移量的校正数据；以及工序D：在基于目标坐标数据和校正数据确定的位置形成多个开口部的每一个；在工序C中关于多个开口部的每一个的校正数据与形成多个开口部的顺序相关联，且在工序D中多个开口部按照顺序形成。

技术领域

本发明涉及成膜掩模的制造方法，特别是涉及适用于高精细的有机EL(ElectroLuminescence：电致发光)显示装置的量产的成膜掩模的制造方法。成膜掩模指的是包括薄膜沉积技术(例如Physical Vapor Deposition(PVD)、Chemical Vapor Deposition(CVD)等。)中使用的掩模。以下，以作为PVD的一种的真空蒸镀法为例进行说明。

背景技术

近年来，有机EL显示装置已实用化。在当前量产的中小型的有机EL显示装置中，有机EL层的形成主要使用真空蒸镀法来进行。有机EL层例如包含空穴输送层、电子输送层及配置于它们之间的有机发光层。空穴输送层还可以兼作有机发光层。将至少包含有机发光层和电子输送层的且由有机材料形成的层称为有机EL层。

有机EL显示装置具有：针对每个像素至少一个有机EL元件(OrganicLightEmitting Diode：OLED)和控制向每个OLED供给的电流的至少一个TFT(ThinFilmTransistor)。以下，将有机EL显示装置称为OLED显示装置。如上所述，针对每个OLED，具有TFT等开关元件的OLED显示装置被称为有源矩阵型OLED显示装置。另外，形成TFT和OLED的基板被称为元件基板。包含TFT的驱动电路被称为背板电路(或简称为“背板”)，OLED形成在背板上。

在可进行彩色显示的有机EL显示装置中，例如由R像素、G像素、B像素构成一个彩色显示像素。构成彩色显示像素的不同颜色的像素有时也被称为原色像素。本说明书中的像素有时也称为“点”，彩色显示像素称为“像素”。例如，表示分辨率的ppi(pixel perinch)表示1英寸所包含的“像素”的数量。

另外，在用三种不同颜色的像素构成一个彩色显示像素的情况下，三种不同颜色的像素的形状、大小也可以彼此不同。例如，可以增大发光效率低的蓝色的像素，减小发光效率高的绿色的像素。或者，也可以由一个红色像素、一个绿色像素以及两个蓝色像素构成一个彩色显示像素。另外，像素排列可以是条纹排列、三角形排列，也可以是公知的各种排列。

有机EL层使用按颜色来准备的成膜掩模并通过真空蒸镀法形成。除了有机EL层以外，在有机EL层上形成的电极层(例如阴极层)也可以使用成膜掩膜通过例如溅射法形成。另外，在有机EL层下形成的电极层(例如阳极层)，由于有机EL层不会暴露于显影液中，所以可以通过光刻工艺形成。

以往，作为成膜掩模，使用在金属层(金属板)上以规定的图案形成有多个开口部的金属掩模(Fine Metal Mask：有时被称为FMM。)(例如，专利文献1)。为了对应OLED显示装置的高精细化，提出有能够形成比金属掩模更高精细的图案的且具有树脂层与磁性金属层层叠而成的层叠体的成膜掩模(以下，称为“层叠型掩模”。)(例如，专利文献2、3)。

在本说明书中，将形成有成膜掩模的开口部(成膜的物质通过的贯通孔)的部件称为掩模基材。在金属掩模中，金属层(典型地为磁性金属层)为掩模基材，在层叠型掩模中，树脂层与磁性金属层的层叠体内的树脂层为掩模基材。另外，将成膜掩模的部分中与作为成膜对象的元件基板(例如形成有背板的阶段性元件)的有源区域(也称为“元件形成区域”或“显示区域”。)紧贴的部分称为有源区域形成部。

现有技术文献

专利文献