[发明专利]分析装置

说明书

带电粒子束照射装置构成为向试样照射带电粒子束并检测从试样释放的信号。第一处理部(10)构成为能够与第一输入设备(11)进行通信，根据来自第一输入设备(11)的信号，并基于带电粒子束照射装置的检测信号对试样进行分析。第二处理部(20)构成为能够与第二输入设备(21)及第一处理部(10)进行通信，根据带电粒子束照射装置的检测信号来生成试样的观察图像，并且根据来自第二输入设备(21)的信号控制带电粒子束照射装置。第二输入设备(21)包括指示设备。第二处理部(20)将针对指示设备的操作输入转换为对带电粒子束照射装置的控制信号。

技术领域

本发明涉及一种分析装置。

背景技术

电子探针显微分析仪(EPMA：Electron Probe Micro Analyzer)和扫描电子显微镜(SEM：Scanning Electron Microscope)等分析装置构成为：向试样照射电子束和离子束等带电粒子束，并检测通过该照射而从试样产生的信号(二次电子射线、反射电子射线以及特性X射线等)，由此能够进行试样的观察和分析。

在日本特开2015-17971号公报(专利文献1)中公开了一种使用分光显微镜观察试样的分光测定装置。专利文献1中记载的分光测定装置具有使由分光显微镜获取到的分光数据显示于显示部的图像处理装置。图像处理装置构成为按照来自鼠标等指示设备的指示来变更显示图像。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2015-17971号公报

发明内容

发明要解决的问题

在分析装置中，近年来提出了一种能够利用指示设备进行用于试样的观察和分析的所有操作的结构。根据该结构，分析者通过利用指示设备操作显示在显示器上的图标等，能够进行试样的像观察(二次电子像、反射电子像以及X射线像)、基于观察图像的试样的分析位置搜索以及分析位置处所包含的元素的定性及定量分析。

例如，在利用EPMA进行试样的分析位置搜索的情况下，在显示器显示观察图像，并且显示用于调整试样台的位置、电子束的焦点和倍率等的图标。当分析者一边看观察图像一边利用指示设备操作图标时，通过根据该操作控制电子束照射装置，能够将视野设定在试样上的期望的分析位置。

此外，由于每当变更试样时就进行试样的分析位置搜索，因此与其它操作相比，执行频率相对高。然而，在上述结构中，根据分析者的不同而操作性有时未必高，但由于需要与其它操作并用指示设备，因此难以使指示设备专门用于对电子束照射装置的控制。

另一方面，作为分析装置的其它结构，存在一种使专门用于对电子束照射装置的控制的专用操作设备附属于电子束照射装置的结构。例如，与电子束照射装置一体地设置面板状的操作设备，在该操作设备中设置用于调整试样台的位置、电子束的焦点和倍率等的操作开关(按钮、拨盘以及开关等)。分析者能够通过一边看观察图像一边手动地操作操作开关，来控制电子束照射装置。但是，即使是像这样专门用于对电子束照射装置的控制的操作设备，也因分析者不同而使用便利性不同，因此存在难以提供对于所有分析者来说操作性良好的操作设备的问题。

另外，由于在专用的操作设备与电子束照射装置的控制器之间的通信中使用电子束照射装置所固有的通信，因此装置生产商需要按每个装置进行设计，存在制造成本高的问题。

本发明是为了解决上述问题而完成的，其目的在于，在分析装置中以简单的结构提高分析者的作业效率。

用于解决问题的方案