[发明专利]靶、成膜装置和成膜对象物的制造方法

说明书

本发明的目的是谋求靶构件的长寿命化。通过将靶(TA2)的构造形成为对称构造，实现能够翻转的结构。由此，即使在等离子体密度较高的等离子体生成部侧的靶构件(71)的消耗增大，也能够通过使靶(TA2)翻转而将位于等离子体密度较低的成膜对象物侧的消耗较少的靶构件(71)的部位再配置于等离子体密度较高的等离子体生成部侧。

技术领域

本发明涉及一种靶、成膜装置和成膜对象物的制造技术，例如涉及利用等离子体在成膜对象物上形成膜的技术。

背景技术

在日本特开昭59-47728号公报(专利文献1)中记载了如下技术：通过使利用电子回旋共振现象(Electron Cyclotron Resonance：ECR)产生的等离子体所包含的离子碰撞在靶构件上，使从靶构件飞出的靶粒子粘附于成膜对象物从而在成膜对象物上形成膜。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开昭59-47728号公报

发明内容

发明要解决的课题

在溅射技术中，使等离子体所包含的离子碰撞在靶构件上而使从靶构件飞出的靶粒子粘附于成膜对象物，从而在成膜对象物上形成膜。因此，如果反复实施在成膜对象物上形成膜的工序，则消耗靶构件。特别是，由于靶构件经由结合材料而固定于支撑构件，如果靶构件耗尽而使结合材料、支撑构件露出，则离子碰撞在结合材料、支撑构件上而使构成结合材料、支撑构件的粒子飞出，该粒子附着于成膜对象物。这意味着，在形成在成膜对象物上的膜中会导入杂质。因此，需要在靶构件耗尽而露出结合材料、支撑构件之前更换靶构件。关于这点，如果靶构件的更换频率升高，则成膜装置的运行成本上升。由此，从抑制运行成本的观点出发，期望尽量谋求靶构件的长寿命化。

其他课题和新特征根据本说明书的记载及附图而变得清楚。

用于解决课题的技术方案

一个实施方式中的靶具备形成为筒形状的靶构件和支撑靶构件的支撑构件。该支撑构件具有经由粘接构件与靶构件相接的壁部。而且，壁部具有以第一厚度形成的第一部位、以比第一厚度厚的第二厚度形成的第二部位和以第一厚度形成的第三部位，第二部位被第一部位和第三部位夹在中间。在此，第一部位和第三部位相对于与筒形状的中心线正交且将靶构件二等分的假想面呈对称配置。

一个实施方式中的成膜装置具备保持成膜对象物的保持部、生成等离子体的等离子体生成部、设置在保持部与等离子体生成部之间的靶以及固定靶的固定部。此时，固定部包括主体部和按压靶的按压部。而且，成膜装置具有与靶的第一部位、靶的第二部位和固定部的按压部接触的第一密封构件；与靶的第二部位、靶的第三部位和固定部的主体部接触的第二密封构件；以及与固定部的主体部和固定部的按压部接触的第三密封构件。

一个实施方式中的成膜对象物的制造方法具备如下工序：使用设置在保持第一成膜对象物的保持部与生成等离子体的等离子体生成部之间且由固定部固定的筒形状的靶，在第一成膜对象物上形成膜(工序(a))；以及在工序(a)之后，从保持部卸除第一成膜对象物(工序(b))。接着，一个实施方式中的成膜对象物的制造方法具备如下工序：在工序(b)之后将靶从固定部卸除((c)工序)；以及在工序(c)之后，使靶翻转，并将靶安装到固定部(工序(d))。接下来，一个实施方式中的成膜对象物的制造方法具备如下工序：在工序(d)之后，利用保持部来保持第二成膜对象物(工序(e))；以及在工序(e)之后，使用靶，在第二成膜对象物上形成膜(工序(f))。

发明效果

根据一个实施方式，能够谋求靶构件的长寿命化。其结果是，根据一个实施方式，能够降低成膜装置的运行成本。

附图说明

图1是表示成膜装置的示意性的结构的图。

图2是对成膜动作的流程进行说明的流程图。